[實用新型]一種H型金屬化膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420319340.6
• 申請日: 2014-06-16
• 公開（公告）號: CN203931824U
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 宋仁祥
• 申請（專利權(quán)）人: 安徽省寧國市海偉電子有限公司
• 主分類號: H01G4/015
• 分類號: H01G4/015
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及一種電容器用金屬化膜，尤其涉及一種H型金屬化膜，屬于電子元器件技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

幾年來，隨著信息產(chǎn)業(yè)及現(xiàn)代電子裝備、儀器儀表向著小型化、輕量化、低成本、高性能等方向發(fā)展，金屬化薄膜電容器以其耐壓跨度大、覆蓋范圍廣、自愈性能好、適應(yīng)領(lǐng)域?qū)挼蕊@著特點而得到了廣泛的重視和應(yīng)用。金屬化薄膜電容器作為基礎(chǔ)電子元器件，市場的需求逐年增大，其型號、規(guī)格、品種越來越多，使用的領(lǐng)域不斷拓寬，產(chǎn)品的技術(shù)檔次，制造中的工藝技術(shù)和生產(chǎn)設(shè)備的技術(shù)含量也不斷在提高。

隨著電子技術(shù)不斷向高精尖方向發(fā)展，對電容器的工藝控制及質(zhì)量要求越來越高。金屬化薄膜是由塑料薄膜上真空蒸鍍上一層很薄的金屬構(gòu)成，該層金屬被用來作為電極。現(xiàn)有的普通金屬化膜上設(shè)置隔離帶，防止金屬化膜自愈過程中把與自愈點上下相鄰的多層介質(zhì)灼傷擊穿，造成電容器短路失效。但是實際上，隔離帶并不一定能很好控制局部電流的大小，最終還是導(dǎo)致金屬化膜被灼傷擊穿，影響實際使用。

實用新型內(nèi)容

本實用新型正是針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種H型金屬化膜。

為解決上述問題，本實用新型所采取的技術(shù)方案如下：

一種H型金屬化膜，包括：基膜和金屬蒸鍍膜，金屬蒸鍍膜僅設(shè)置在基膜一側(cè)的表面上，所述金屬蒸鍍膜包括：加厚區(qū)和金屬區(qū)，并在基膜上未被金屬蒸鍍膜覆蓋的區(qū)域形成屏帶，在金屬區(qū)內(nèi)設(shè)置有H型隔離帶，所述隔離帶包括：大隔離區(qū)和小隔離區(qū)，大隔離區(qū)和小隔離區(qū)組合在一起形成“H”形，在加厚區(qū)和金屬區(qū)寬度方向上設(shè)置有三個H型隔離帶，且金屬區(qū)內(nèi)僅設(shè)置一個小隔離區(qū)，在鄰接屏帶處僅設(shè)置一個大隔離區(qū)。

作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述大隔離區(qū)的高度T與小隔離區(qū)的高度t之間的幾何關(guān)系為：T=10t。

作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，從屏帶開始計算各個隔離帶之間間距分別為：A、B和C，三個H型隔離帶的總高度為L，且L=3A=3B=3C。

本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本實用新型的實施效果如下：

本實用新型所述金屬化膜，在金屬區(qū)內(nèi)部設(shè)定H型隔離帶，并通過限定內(nèi)部隔離帶形狀與尺寸大小，有效提高金屬化膜的自愈能力，降低局部電流密度，防止局部發(fā)生灼燒或擊穿現(xiàn)象，提高電容器的安全性和使用壽命，滿足實際使用要求，實施效果好。

附圖說明

圖1為本實用新型所述H型金屬化膜結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實用新型所述金屬化膜中隔離條結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面將結(jié)合具體的實施例來說明本實用新型的內(nèi)容。

如圖1所示，為本實用新型所述H型金屬化膜結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為其隔離條結(jié)構(gòu)示意圖，所述金屬化膜包括：基膜和金屬蒸鍍膜，金屬蒸鍍膜僅設(shè)置在基膜一側(cè)的表面上。所述金屬蒸鍍膜包括：加厚區(qū)10和金屬區(qū)20，在基膜上未被金屬蒸鍍膜覆蓋的區(qū)域形成屏帶30。金屬區(qū)20為在基膜上采用蒸鍍工藝形成的鋅鋁復(fù)合層，加厚區(qū)10的鋅鋁復(fù)合層厚度比金屬區(qū)20的厚度厚。

在金屬區(qū)20內(nèi)設(shè)置有H型隔離帶40，所述隔離帶40包括較大的大隔離區(qū)41和較小的小隔離區(qū)42，大隔離區(qū)41和小隔離區(qū)42組合在一起形成“H”形，大隔離區(qū)41的高度為T，小隔離區(qū)42的高度為t，且T=10t。

本實用新型所述H型金屬化膜，在加厚區(qū)10和金屬區(qū)20寬度方向上設(shè)置有三個H型隔離帶40，且金屬區(qū)20內(nèi)僅設(shè)置一個小隔離區(qū)42，在鄰接屏帶30處僅設(shè)置一個大隔離區(qū)41，從屏帶30開始計算各個隔離帶之間間距分別為：A、B和C。三個H型隔離帶40的總高度為L，且L=3A=3B=3C。

本實用新型所述H型金屬化膜，通過限定內(nèi)部隔離帶形狀與尺寸大小，有效提高金屬化膜的自愈能力，降低局部電流密度，防止局部發(fā)生灼燒或擊穿現(xiàn)象，提高電容器的安全性。本實用新型所述H型金屬化膜，正是因為其為H型結(jié)構(gòu)，卷制后形成若干個內(nèi)串式“微型電容”，當(dāng)某一“微型電容”被擊穿后，其容量不會迅速下降，僅損失原有的一半，仍然可正常工作，不會影響正常使用。