[實用新型]一種H型金屬化膜

有效

• 申請號: 201420319340.6
• 申請日: 2014-06-16
• 公開（公告）號: CN203931824U
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發明（設計）人: 宋仁祥
• 申請（專利權）人: 安徽省寧國市海偉電子有限公司
• 主分類號: H01G4/015
• 分類號: H01G4/015
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種H型金屬化膜，包括：基膜和金屬蒸鍍膜，金屬蒸鍍膜僅設置在基膜一側的表面上，其特征是，所述金屬蒸鍍膜包括：加厚區（10）和金屬區（20），并在基膜上未被金屬蒸鍍膜覆蓋的區域形成屏帶（30），在金屬區（20）內設置有H型隔離帶（40），所述隔離帶（40）包括：大隔離區（41）和小隔離區（42），大隔離區（41）和小隔離區（42）組合在一起形成“H”形，在加厚區（10）和金屬區（20）寬度方向上設置有三個H型隔離帶（40），且金屬區（20）內僅設置一個小隔離區（42），在鄰接屏帶（30）處僅設置一個大隔離區（41）。

2.如權利要求1所述的一種H型金屬化膜，其特征是，所述大隔離區（41）的高度T與小隔離區（42）的高度t之間的幾何關系為：T=10t。

3.如權利要求1或2所述的一種H型金屬化膜，其特征是，從屏帶（30）開始計算各個隔離帶之間間距分別為：A、B和C，三個H型隔離帶（40）的總高度為L，且L=3A=3B=3C。