[實用新型]真空裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420307421.4 | 申請日: | 2014-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN203960327U | 公開(公告)日: | 2014-11-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 約亨·克勞瑟 | 申請(專利權)人: | 馮·阿登納有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 楊生平;鐘錦舜 |
| 地址: | 德國德*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 裝置 | ||
1.一種真空裝置,其特征在于,具有:?
真空室(102),設置成在真空中處理基體(200);以及?
至少一個通道(104),設置成使基體(200)進入真空室(102)和/或從真空室(102)中出來,其中,該至少一個通道(104)具有至少一個元件(106),該至少一個元件這樣地可移動地布置和設置,即,至少一個通道(104)的通過開口(105)的尺寸(109)可改變,從而使基體(200)進入該元件(106)的不同打開位置。?
2.根據權利要求1所述的真空裝置,其特征在于,其此外具有控制裝置(112),該控制裝置設置成,取決于基體(200)的厚度而移動至少一個元件(106)。?
3.根據權利要求1所述的真空裝置,其特征在于,至少一個元件(106)這樣地設置,即,其將使基體(200)進入真空室(102)的第一通道(104a)與使基體(200)從真空室(102)出來的第二通道(104b)相互耦接,使得在第一通道(104a)與第二通道(104b)之間提供氣體引導部。?
4.根據權利要求3所述的真空裝置,其特征在于,至少一個元件(106)這樣地相對于被運輸通過真空室(102)的基體(200)布置,即,該至少一個元件(106)的至少一個面(106a)沿著基體表面在第一通道(104a)與第二通道(104b)之間延伸。?
5.根據權利要求3所述的真空裝置,其特征在于,至少一個元件(106)這樣地設置,即,第一通道(104a)的通過開口(105)的尺寸(109)和第二通道(104b)的通過開口(105)的尺寸(109)可同時借助于至少一個可移動的元件(106)而改變。?
6.根據權利要求1所述的真空裝置,其特征在于,其此外具有運輸系統(tǒng)(116),用于運輸基體(200)通過至少一個通道(104)。?
7.根據權利要求6所述的真空裝置,其特征在于,運輸系統(tǒng)(116)具有至少一個導氣元件(118),這樣地布置和設置,即,該至少一個可移動的元件(106)和運輸系統(tǒng)(116)的至少一個導氣元件(118)形成氣體引導部(105a)。?
8.根據權利要求1所述的真空裝置,其特征在于,至少一個可移動的元件?(106)這樣地相對于被運輸通過真空室(102)的基體(200)布置,即,在該至少一個可移動的元件(106)與被運輸通過真空室(102)的基體(200)之間設置間隙,其中,該間隙在垂直于基體表面的方向上具有在大致0.5cm至5cm的范圍內的空間擴展。?
9.根據權利要求1所述的真空裝置,其特征在于,其此外具有至少部分布置在真空室(102)內的調節(jié)裝置(112),其與至少一個元件(106)耦接,使得該至少一個元件(106)可運動。?
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





