[實用新型]生長在Ag襯底上的LED外延片有效
| 申請號: | 201420288968.4 | 申請日: | 2014-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN203895486U | 公開(公告)日: | 2014-10-22 |
| 發明(設計)人: | 李國強 | 申請(專利權)人: | 廣州市眾拓光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/06 | 分類號: | H01L33/06;H01L33/12 |
| 代理公司: | 廣州市越秀區哲力專利商標事務所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 湯喜友 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 生長 ag 襯底 led 外延 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種LED外延片,特別是涉及一種生長在Ag襯底上的LED外延片。
背景技術
發光二極管(LED)作為一種新型固體照明光源和綠色光源,具有體積小、耗電量低、環保、使用壽命長、高亮度、低熱量以及多彩等突出特點,在室外照明、商業照明以及裝飾工程等領域都具有廣泛的應用。當前,在全球氣候變暖問題日趨嚴峻的背景下,節約能源、減少溫室氣體排放成為全球共同面對的重要問題。以低能耗、低污染、低排放為基礎的低碳經濟,將成為經濟發展的重要方向。在照明領域,LED發光產品的應用正吸引著世人的目光,LED作為一種新型的綠色光源產品,必然是未來發展的趨勢,二十一世紀將是以LED為代表的新型照明光源的時代。但是現階段LED的應用成本較高,發光效率較低,這些因素都會大大限制LED向高效節能環保的方向發展。
III族氮化物GaN在電學、光學以及聲學上具有極其優異的性質,近幾年受到廣泛關注。GaN是直接帶隙材料,且聲波傳輸速度快,化學和熱穩定性好,熱導率高,熱膨脹系數低,擊穿介電強度高,是制造高效的LED器件的理想材料。目前,GaN基LED的發光效率現在已經達到28%并且還在進一步的增長,該數值遠遠高于目前通常使用的白熾燈(約為2%)或熒光燈(約為10%)等照明方式的發光效率。數據統計表明,我國目前的照明用電每年在4100億度以上,超過英國全國一年的用電量。如果用LED取代全部白熾燈或部分取代熒光燈,可節省接近一半的照明用電,超過三峽工程全年的發電量。因照明而產生的溫室氣體排放也會因此而大大降低。另外,與熒光燈相比,GaN基LED不含有毒的汞元素,且使用壽命約為此類照明工具的100倍。
LED要真正實現大規模廣泛應用,需要進一步提高LED芯片的發光效率。雖然LED的發光效率已經超過日光燈和白熾燈,但是商業化LED發光效率還是低于鈉燈(150lm/W),單位流明/瓦的價格偏高。目前,LED芯片的發光效率不夠高,一個主要原因是由于其藍寶石襯底造成的。由于藍寶石與GaN的晶格失配高達17%,導致外延GaN薄膜過程中形成很高的位錯密度,從而降低了材料的載流子遷移率,縮短了載流子壽命,進而影響了GaN基器件的性能。其次,由于室溫下藍寶石熱膨脹系數(6.63×10-6/K)較GaN的熱膨脹系數(5.6×10-6/K)大,兩者間的熱失配度約為-18.4%,當外延層生長結束后,器件從外延生長的高溫冷卻至室溫過程會產生很大的壓應力,容易導致薄膜和襯底的龜裂。再次,由于藍寶石的熱導率低(100℃時為0.25W/cmK),很難將芯片內產生的熱量及時排出,導致熱量積累,使器件的內量子效率降低,最終影響器件的性能。此外,由于藍寶石是絕緣體,不能制作垂直結構半導體器件。因此電流在器件中存在橫向流動,導致電流分布不均勻,產生較多熱量,很大程度上影響了GaN基LED器件的電學和光學性質。
因此迫切尋找一種熱導率高可以快速地將LED節區的熱量傳遞出來的材料作為襯底。而金屬Ag作為外延氮化物的襯底材料,具有四大其獨特的優勢。第一,金屬Ag有很高的熱導率,Ag的熱導率為4.19W/cmK,可以將LED芯片內產生的熱量及時的傳導出,以降低器件的節區溫度,一方面提高器件的內量子效率,另一方面有助于解決器件散熱問題。第二,金屬Ag可以作為生長GaN基垂直結構的LED器件的襯底材料,可直接在襯底上鍍陰極材料,P-GaN上鍍陽極材料,使得電流幾乎全部垂直流過GaN-基的外延層,因而電阻下降,沒有電流擁擠,電流分布均勻,電流產生的熱量減小,對器件的散熱有利;另外,可以將陰極材料直接鍍在金屬襯底上,不需要通過腐蝕P-GaN層和有源層將電極連在N-GaN層,這樣充分利用了有源層的材料。第三,金屬Ag襯底材料相對其他襯底,價格更便宜,可以極大地降低器件的制造成本。第四,光滑的金屬Ag表面可以反射經過襯底表面的光,從而提高LED的出光效率。正因為上述諸多優勢,金屬襯底現已被嘗試用作III族氮化物外延生長的襯底材料。
但是金屬Ag襯底在化學性質不穩定,當外延溫度高于620℃的時候,外延氮化物會與金屬襯底之間發生界面反應,嚴重影響了外延薄膜生長的質量。III族氮化物外延生長的先驅研究者、著名科學家Akasaki等人就曾嘗試應用傳統的MOCVD或者MBE技術直接在化學性質多變的襯底材料上外延生長氮化物,結果發現薄膜在高溫下外延相當困難。如何在Ag襯底生長高質量的LED外延片仍是一個技術問題。
實用新型內容
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣州市眾拓光電科技有限公司,未經廣州市眾拓光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201420288968.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





