[實用新型]去PSG機配酸系統有效
| 申請號: | 201420269990.4 | 申請日: | 2014-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN203950786U | 公開(公告)日: | 2014-11-19 |
| 發明(設計)人: | 張軍虎;周天賢;曹允波 | 申請(專利權)人: | 江陰鑫輝太陽能有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 江陰市同盛專利事務所(普通合伙) 32210 | 代理人: | 唐紉蘭;曾丹 |
| 地址: | 214426 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | psg 機配酸 系統 | ||
1.一種去PSG機配酸系統,它包括供酸罐(1),供酸罐(1)上引出供酸總管(2),供酸總管(2)上分出四根供酸支管(4),其特征在于供酸支管(4)的末端通往恒壓桶(5)的進液口,恒壓桶(5)的外側引出一根恒壓檢測管(6),恒壓檢測管(6)的上端以及下端分別連接恒壓桶(5)的上段以及下段,恒壓檢測管(6)上從下至上依次設置有低液位傳感器(6.1)、中液位傳感器(6.2)、高液位傳感器(6.3)以及超高液位傳感器(6.4),恒壓桶(5)的出液口通過進酸管(7)連接去PSG機(8)上的配酸槽(9)的進液口,所述供酸支管(4)上設置有第一氣動閥(10),所述進酸管(7)上設置有第二氣動閥(11)。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





