[實用新型]一種單工位硅拋光片載體盤冷卻清洗機有效
| 申請號: | 201420268829.5 | 申請日: | 2014-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN203941889U | 公開(公告)日: | 2014-11-12 |
| 發明(設計)人: | 牛海濤;范強;焦二強;李珩粉;張磊 | 申請(專利權)人: | 洛陽單晶硅有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 洛陽明律專利代理事務所 41118 | 代理人: | 盧洪方 |
| 地址: | 471009 *** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 單工位硅 拋光 載體 冷卻 清洗 | ||
1.一種單工位硅拋光片載體盤冷卻清洗機,其特征是:硅拋光片載體盤冷卻清洗機主要是由支架(1)、底艙(2)、冷卻盤(3)、管道支架(4)、吹氣管(5)、噴淋花灑(6)、艙蓋(7)、氣缸(8)、下連桿(9)、上連桿(10)、按鈕11)、磁信號傳感器(12)構成;其中底艙(2)安裝在支架(1)上,冷卻盤(3)安放底艙(2)的底部前側位置;底艙(2)的底部后部裝有一個直立的管道支架(4),管道支架(4)上安裝有噴淋花灑(6)和吹氣管(5);艙蓋(7)罩在底艙(2)上,通過底艙(2)兩側外壁上的氣缸(8)、下連桿(9)、上連桿(10)與底艙(2)鉸接在一起;底艙(2)兩側外壁上裝有控制艙蓋(7)開/關的按鈕(11);氣缸(8)的底部裝有磁信號傳感器(12)。
2.根據權利要求1所述的一種單工位硅拋光片載體盤冷卻清洗機,其特征是:底艙(2)是一個700mm×700mm×400mm的方形槽。
3.根據權利要求1所述的一種單工位硅拋光片載體盤冷卻清洗機,其特征是:艙蓋(7)上部裝有一塊透明的有機玻璃。
4.根據權利要求1所述的一種單工位硅拋光片載體盤冷卻清洗機,其特征是:支架(1)采用不銹鋼焊接組件制作,尺寸為700mm×700mm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





