[實用新型]六波長現場物證激光探測儀有效
| 申請號: | 201420267352.9 | 申請日: | 2014-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN203967509U | 公開(公告)日: | 2014-11-26 |
| 發明(設計)人: | 蔡能斌;糜忠良;鄒蕓;徐寶楨;黃曉春;鄧南;溫思博;秦真科;崔洋 | 申請(專利權)人: | 上海市刑事科學技術研究院;上海恒光警用器材有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/40 | 分類號: | H01S5/40;H01S5/06;A61B5/117 |
| 代理公司: | 上海華祺知識產權代理事務所 31247 | 代理人: | 何秀洋 |
| 地址: | 200083 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 波長 現場 物證 激光 探測儀 | ||
1.六波長現場物證激光探測儀,其特征在于,包括:兩組激光生成系統和一個單一激光輸出通道;
兩組激光生成系統中,
其中一組激光生成系統包括一第一激光發射模塊、以及設置在所述第一激光發射模塊輸出側的第一波長生成光路、第二波長生成光路、第三波長生成光路;
另一組激光生成系統包括一第二激光發射模塊、以及設置在所述第二激光發射模塊輸出側的第四波長生成光路、第五波長生成光路、第六波長生成光路;
所述的第一波長生成光路、第二波長生成光路、第三波長生成光路、第四波長生成光路、第五波長生成光路、以及第六波長生成光路輸出的激光通過多個反射鏡匯集到一個單一激光輸出通道輸出。
2.根據權利要求1所述的六波長現場物證激光探測儀,其特征在于,所述的第一激光發射模塊為一980nm半導體激光器;所述的第二激光發射模塊為一808nm半導體激光器。
3.根據權利要求1或2所述的六波長現場物證激光探測儀,其特征在于,
所述的第一波長生成光路由在第一激光發射模塊輸出側順序設置的第一反射鏡、第二反射鏡、第三反射鏡、第四反射鏡、第五反射鏡構成,從所述的單一激光輸出通道輸出;
所述的第二波長生成光路由在第一激光發射模塊輸出側順序設置的1342nm全反鏡、Nd:YVO4晶體、1342nm部分反鏡、第一倍頻晶體、第六反射鏡、第三反射鏡、第四反射鏡、第五反射鏡構成,從所述的單一激光輸出通道輸出;
所述的第三波長生成光路由在第一激光發射模塊輸出側順序設置的1342nm全反鏡、Nd:YVO4晶體、1342nm部分反鏡、第一倍頻晶體、第二倍頻晶體、第七反射鏡、第四反射鏡、第五反射鏡構成,從所述的單一激光輸出通道輸出;
所述的第四波長生成光路由在第二激光發射模塊輸出側順序設置的1064nm全反鏡、Nd:YAG晶體、1342nm部分反鏡、第一和頻晶體、第九反射鏡、第六反射鏡、第三反射鏡、第四反射鏡、第五反射鏡構成,從所述的單一激光輸出通道輸出;
所述的第五波長生成光路由在第二激光發射模塊輸出側順序設置的1064nm全反鏡、Nd:YAG晶體、1342nm部分反鏡、第一和頻晶體、第二和頻晶體、第十反射鏡、第七反射鏡、第四反射鏡、第五反射鏡構成,從所述的單一激光輸出通道輸出;
所述的第六波長生成光路由在第二激光發射模塊輸出側順序設置的1064nm全反鏡、Nd:YAG晶體、1342nm部分反鏡、第一和頻晶體、第二和頻晶體、第三和頻晶體、第八反射鏡、第五反射鏡構成,從所述的單一激光輸出通道輸出。
4.根據權利要求3所述的六波長現場物證激光探測儀,其特征在于,所述的第一倍頻晶體和第二倍頻晶體均為BBO晶體構成;所述的第一和頻晶體、第二和頻晶體、第三和頻晶體均為BIBO晶體構成。
5.根據權利要求3所述的六波長現場物證激光探測儀,其特征在于,
所述的第一反射鏡是980nm全反鏡;
所述的第二反射鏡是980nm全反鏡;
所述的第三反射鏡的980nm透射532nm、671nm反射鏡;
所述的第四反射鏡的980nm、671nm、532nm透射335nm、447.5nm反射鏡;
所述的第五反射鏡是980nm、671nm、447.5nm、532nm、355nm透射266nm反射鏡;
所述的第六反射鏡是532nm透射671nm反射鏡;
所述的第七反射鏡是355nm透射447.5nm反射鏡;
所述的第八反射鏡是266nm反射鏡;
所述的第九反射鏡是355nm反射鏡;
所述的第十反射鏡是532nm全反鏡。
6.根據權利要求3所述的六波長現場物證激光探測儀,其特征在于,
所述的第一波長生成光路輸出980nm波長激光;
所述的第二波長生成光路輸出671nm波長激光;
所述的第三波長生成光路輸出447.5nm波長激光;
所述的第四波長生成光路輸出532nm波長激光;
所述的第五波長生成光路輸出355nm波長激光;
所述的第六波長生成光路輸出266nm波長激光。
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