[實用新型]六波長現場物證激光探測儀有效
| 申請號: | 201420267352.9 | 申請日: | 2014-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN203967509U | 公開(公告)日: | 2014-11-26 |
| 發明(設計)人: | 蔡能斌;糜忠良;鄒蕓;徐寶楨;黃曉春;鄧南;溫思博;秦真科;崔洋 | 申請(專利權)人: | 上海市刑事科學技術研究院;上海恒光警用器材有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/40 | 分類號: | H01S5/40;H01S5/06;A61B5/117 |
| 代理公司: | 上海華祺知識產權代理事務所 31247 | 代理人: | 何秀洋 |
| 地址: | 200083 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 波長 現場 物證 激光 探測儀 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種利用光學倍頻及和頻技術實現涵蓋現場物證探測所需主要激光波段、應用于現場物證探測的六波長現場物證激光探測儀。
背景技術
公安部門在對犯罪嫌疑人的個人生物樣本信息進行有效甄別的過程中,往往將潛在指印的顯現和提取作為尋找訴訟證據的最重要的環節之一。目前顯現痕跡的方法有很多種,主要分為物理方法、化學方法和光學方法三大類。其中物理方法包括502膠熏顯、粉末刷顯、碘熏顯、物理顯影液顯現、小粒子懸浮液顯現、真空金屬鍍膜顯現和染料染色法。化學方法主要包括茚三酮顯現、DFO顯現和硝酸銀顯現方法。光學方法涵蓋了反射、透射、光致發光成像和拉曼散射。光學方法主要的特征是利用不同物質在紫外、可見光和紅外的吸收和反射特性的不同顯現痕跡的一種非接觸式無損顯現的方法。在現場勘驗和潛在痕跡顯現的光學技術中,為了提高潛在痕跡的顯現率,需要進行光學多頻段探測。?
激光技術在痕跡物證方面的應用始于1977年Menzel等人在法庭科學雜志上的報道,他們首次將氬離子激光器用于顯現指印。在刑事科學技術領域,由于光學方法的無損性,利用其顯現及提取痕跡物證近年來備受關注。現有技術中,在藍綠波段,雖然激光器的功率被不斷加大,但由于激光波段和潛在汗液指印的吸收波段不能很好匹配,因此在顯現潛在汗液指印等生物樣本的固有熒光方面效果仍然不理想,往往需要利用一些專門的溶劑、粉末進行熒光預處理,但熒光處理的結果會污染檢材。所以針對現場勘驗需求為主的多個常用激光波段的集成光源在刑事科學技術應用中顯得尤為重要。
中國專利公開號CN102280807A(公開日2011-12-14)記載了一種醫用多波長激光器,由基頻光通過調制器產生所需波長的激光,采用了選擇性反射鏡及全反鏡構成諧振腔,結構緊湊。其包括半導體側面Nd:YAG激光模塊、全反射鏡、部分反射鏡、45°反射鏡、分光鏡、激光倍頻器、聲光調制器、液光開關以及光閘組成。基本特點是:當液光開關以及光閘開啟時,形成1064nm“Z”型激光諧振腔;當液光開關關閉而光閘開啟時,形成532nm激光輸出諧振腔,當光閘關閉時,形成1320nm和660nm激光波段諧振腔,輸出的激光經過雙色鏡分別輸出。其中,液光開關是由兩個直角棱鏡斜面相對并通過連接條固定連接成直角棱鏡的組件,改變斜面通道間的介質從而達到調節光出射方向的目的。描述的多波段激光器的波長和功率分別為1320nm(90W)、1064nm(212W)、660nm(18W)、532nm(120W)四個波段,其利用液光開關及光閘來選擇和調整波段。但是該醫用激光器存在以下的缺點:
1、只有四個波段,涵蓋的面有限;
2、各波段只能從各自的輸出通道輸出,不能在同一輸出通道中輸出。因此操作過程復雜,無法在現場勘驗中實際應用。
發明內容
本實用新型的目的是針對現有的多波長激光器存在的不足,而提供的一種能夠滿足刑事科學技術領域中現場勘驗應用的六波長現場物證激光探測儀,具有結構緊湊、性能穩定且操作簡便的優點。
本實用新型采取的技術方案是:六波長現場物證激光探測儀,其特點是,包括:兩組激光生成系統和一個單一激光輸出通道;兩組激光生成系統中,其中一組激光生成系統包括一第一激光發射模塊、以及設置在所述第一激光發射模塊輸出側的第一波長生成光路、第二波長生成光路、第三波長生成光路;另一組激光生成系統包括一第二激光發射模塊、以及設置在所述第二激光發射模塊輸出側的第四波長生成光路、第五波長生成光路、第六波長生成光路;所述的第一波長生成光路、第二波長生成光路、第三波長生成光路、第四波長生成光路、第五波長生成光路、以及第六波長生成光路輸出的激光通過多個反射鏡匯集到一個單一激光輸出通道輸出。
上述六波長現場物證激光探測儀,其中,所述的第一激光發射模塊為一980nm半導體激光器;所述的第二激光發射模塊為一808nm半導體激光器。
上述六波長現場物證激光探測儀,其中,
所述的第一波長生成光路由在第一激光發射模塊輸出側順序設置的第一反射鏡、第二反射鏡、第三反射鏡、第四反射鏡、第五反射鏡構成,從所述的單一激光輸出通道輸出;
所述的第二波長生成光路由在第一激光發射模塊輸出側順序設置的1342nm全反鏡、Nd:YVO4晶體、1342nm部分反鏡、第一倍頻晶體、第六反射鏡、第三反射鏡、第四反射鏡、第五反射鏡構成,從所述的單一激光輸出通道輸出;
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