[實用新型]真空鍍膜的加熱裝置有效
| 申請號: | 201420266441.1 | 申請日: | 2014-05-22 |
| 公開(公告)號: | CN203938724U | 公開(公告)日: | 2014-11-12 |
| 發明(設計)人: | 王朝陽;郭磊;周佳 | 申請(專利權)人: | 無錫啟暉光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人: | 張惠忠 |
| 地址: | 214174 江蘇省無錫市惠山*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空鍍膜 加熱 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種真空鍍膜的加熱裝置,屬于真空鍍膜機械技術領域。
背景技術
真空鍍膜技術作為薄膜設備的一種重要手段,在現代微電子技術和微器件設備中占有特殊重要的地位;這種技術是指在真空環境下利用物理或化學手段在工件表面沉積一層具有特殊用途膜層的表面處理方法。一般將真空鍍膜技術分為兩大類:一類是物理氣相沉積,稱為PVD;另一類是化學氣相沉積,稱為CVD;其中最簡單最常用的就是熱蒸發,即利用物質受熱后的蒸發或升華將其轉化為氣態再沉積在基片表面。與此相應的真空鍍膜設備一般包括蒸鍍室、轉架系統、抽氣系統、進氣系統、電源系統、控制系統和加熱裝置;所述加熱裝置一般包括蒸鍍容器和加熱器。使用時,將基片固定于轉架系統上,將蒸鍍材料置于蒸鍍容器中,再利用加熱器加熱該蒸鍍容器,使其內的蒸鍍材料轉化為氣態沉積在基片表面,從而達到蒸鍍成膜的目的。在實際應用中,通常需要在基片上連續蒸鍍若干層不同材料的膜層,因而在一個真空鍍膜設備中通常設有復數個配套的蒸鍍容器和加熱器,每個蒸鍍容器中放置一種蒸鍍材料,按照實際需求依次將各種蒸鍍材料轉化為氣態再沉積在基片表面,從而完成基片的復數層膜層的設備。
真空鍍膜機是一種比較常用的設備,尤其在半導體器件工藝的電極制作工藝中更是應用廣泛。真空鍍膜機分為常溫鍍膜及高溫鍍膜,在高溫鍍膜的工況條件下,需要在真空鍍膜箱中對被鍍基片加熱。現在用于真空鍍膜的加熱裝置多種多樣,但是現在的用于真空鍍膜的加熱裝置大多有加熱效率不高,被鍍基片受熱不均等問題。
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題是提供一種真空鍍膜的加熱裝置,該真空鍍膜的加熱裝置布置靈活,便于安裝,解決了受熱不均,加熱效率慢和加熱結束后和鍍膜的時候鍍膜源發出的金屬蒸汽沉積到加熱器表面的問題。
為了解決上述技術問題,本實用新型的真空鍍膜的加熱裝置,包括若干個通過支架與真空鍍膜箱體內壁連接的加熱治具,所述加熱治具包括與支架一端連接的反射板、設置于反射板前側的可開啟的擋板以及設置于擋板與反射板兩者之間的加熱器,所述反射板內側表面設有凹凸結構,反射板兩端通過連接板與擋板兩端連接。采用這樣的真空鍍膜的加熱裝置,由于若干個加熱治具通過支架與真空鍍膜箱體內壁連接,可以使被鍍基片加熱均勻;由于反射板內側表面設有凹凸結構,這樣可以有效提高加熱器對基片的加熱效率,又由于擋板是可開啟的,這樣在加熱結束后和鍍膜的時候可關閉擋板,以屏蔽鍍膜源發出的金屬蒸汽沉積到加熱器表面。
所述加熱器功率為1kW。這樣加熱熱量分布均勻,節能損耗,節約了資源。
所述支架包括上支架片和下支架片,上支架片與真空鍍膜箱體內壁連接,下支架片與反射板連接,上支架片與下支架片通過轉軸連接。采用這種支架,可以通過轉動來調節角度。
所述支架是絕緣材料制成。采用絕緣材料,不容易導電。
所述擋板包括框架、若干個葉片、若干根轉軸,葉片兩端通過轉軸與框架內側連接,采用這種擋板,開啟和關閉都比較方便。
附圖說明
下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明。
圖1是本實用新型真空鍍膜的加熱裝置的整體示意圖。
圖2是本實用新型真空鍍膜的加熱裝置的加熱治具示意圖。
其中有:1.?真空鍍膜箱體;2.加熱治具;3.?支架;4.?反射板;5.?加熱器;6.?擋板;7.?連接板。
具體實施方式
圖1、圖2所示真空鍍膜的加熱裝置包括若干個通過支架3與真空鍍膜箱體1內壁連接的加熱治具2,所述每個加熱治具2包括與支架3一端連接的反射板4、設置于反射板4前側的可開啟的擋板6以及設置于擋板6與反射板4兩者之間的加熱器5,所述反射板4內側表面設有凹凸結構,反射板4兩端通過連接板7與擋板6兩端連接,所述加熱器5功率為1kW,所述支架3包括上支架片和下支架片,上支架片與真空鍍膜箱體1內壁連接,下支架片與反射板4連接,上支架片與下支架片通過轉軸連接,所述支架3是絕緣材料制成,所述擋板6包括框架、若干個葉片、若干根轉軸,葉片兩端通過轉軸與框架內側連接。
當需要調節加熱治具2的角度時,只需通過轉軸轉動下支架片即可;當加熱結束后和進行鍍膜的時候,只需通過轉軸轉動擋板6上的葉片,使葉片閉合,這樣就屏蔽了鍍膜源發出的金屬蒸汽沉積到加熱器5表面,當進行加熱時,只需通過轉軸轉動擋板6上的葉片,使葉片打開即可。
加熱治具2可以設置于真空鍍膜箱體1內部角落處,加熱治具2可以設置成弧形,加熱治具2的個數可以根據實際情況設置。
以上實施方式是本實用新型優選實施方式,在不脫離本實用新型原理的前提下,還可以做出適當變化和修飾,這些變化和修飾也應視為本實用新型的保護范圍。
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