[實用新型]真空鍍膜的加熱裝置

有效

• 申請號: 201420266441.1
• 申請日: 2014-05-22
• 公開（公告）號: CN203938724U
• 公開（公告）日: 2014-11-12
• 發明（設計）人: 王朝陽;郭磊;周佳
• 申請（專利權）人: 無錫啟暉光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 張惠忠

1.一種真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于：包括若干個通過支架（3）與真空鍍膜箱體（1）內壁連接的加熱治具（2），所述每個加熱治具（2）包括與支架（3）一端連接的反射板（4）、設置于反射板（4）前側的可開啟的擋板（6）以及設置于擋板（6）與反射板（4）兩者之間的加熱器（5），所述反射板（4）內側表面設有凹凸結構，反射板（4）兩端通過連接板（7）與擋板（6）兩端連接。

2.按照權利要求1所述的真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于：所述加熱器（5）功率為1kW。

3.按照權利要求1所述的真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于：所述支架（3）包括上支架片和下支架片，上支架片與真空鍍膜箱體（1）內壁連接，下支架片與反射板（4）連接，上支架片與下支架片通過轉軸連接。

4.按照權利要求1或3所述的真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于：所述支架（3）是絕緣材料制成。

5.按照權利要求1所述的真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于：所述擋板（6）包括框架、若干個葉片、若干根轉軸，葉片兩端通過轉軸與框架內側連接。