[實(shí)用新型]用于加熱CVD反應(yīng)器的基座的設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420247512.3 | 申請(qǐng)日: | 2014-05-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN204162789U | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | P-A.伯丁;M.E.奧彭;K.艾倫;F.M.A.克勞利 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 艾克斯特朗歐洲公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/46 | 分類號(hào): | C23C16/46 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 侯宇 |
| 地址: | 德國(guó)黑*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 加熱 cvd 反應(yīng)器 基座 設(shè)備 | ||
1.一種用于加熱CVD反應(yīng)器(1)的基座(4)的設(shè)備,具有至少一個(gè)加熱件(9、19),其中,所述加熱件(9、19)的部段或者不同的加熱件(9、19)并排延伸并且借助支撐件(10、20)相對(duì)于支撐板被位置固定,其中,所述支撐件(10、20)分別具有形狀接合地、牢固地插入所述支撐板(29)的固定開(kāi)口內(nèi)的支腳和與橫向于所述支撐板(29)的延伸面延伸的柄部(14、24)相連接的頭部(11、12、13;21、22、23),所述加熱件(9、19)固定在所述頭部(11、12、13;21、22、23)上,其特征在于,所述支腳通過(guò)形狀接合固定件固定在所述支撐板(29)的固定開(kāi)口(38)內(nèi),所述形狀接合固定件將所述支撐件(10、20)沿所述柄部(14、24)的延伸方向束縛在所述支撐板(29)上。?
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述形狀接合固定件具有至少一個(gè)橫向于所述柄部(14、24)的延伸方向延伸的固持凸起,在安裝所述支撐件(10、20)時(shí),所述固持凸起能夠穿過(guò)所述固定開(kāi)口(38)并且在轉(zhuǎn)動(dòng)所述支撐件(10、20)和/或所述固持凸起變形后從下端夾持所述支撐板(29)或插入所述固定開(kāi)口(38)內(nèi)的插入件(35),并且所述形狀接合固定件還具有至少一個(gè)橫向于所述柄部(14、24)的延伸方向延伸的固定凸起。?
3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其特征在于,所述插入件(35)是絕緣體,并且所述支撐板(29)由金屬構(gòu)成。?
4.如權(quán)利要求2或3所述的設(shè)備,其特征在于,至少所述支腳被設(shè)計(jì)為平面部件,并且所述固定開(kāi)口(38)被設(shè)計(jì)為長(zhǎng)孔,所述長(zhǎng)孔具有窄孔段(38’)和寬孔段(38”),所述窄孔段(38’)的寬度基本上等于所述固持凸起的材料厚度,所述寬孔段(38”)基本上等于在所述支撐凸起和固持凸起之間延伸的頸部的寬度。?
5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述頭部(11、12、13;21、22、23)具有至少一個(gè)弧形走向的支承面(13、23),由螺旋盤(pán)繞的加熱線構(gòu)成的所述加熱件(9、19)貼靠在所述支承面(13、23)上,和/或所述支承面(13、23)被設(shè)計(jì)為凹穴(23)或四周封閉的孔和/或具有貼靠在所述加熱件(9、19)上的齒紋表面。?
6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述支撐件(10、20)具有至少一個(gè)凹槽(18、18’、28、28’),線(44)設(shè)置在所述凹槽(18、18’、28、28’)?內(nèi),所述加熱件(9、19)借助所述線(44)固定在所述支撐件(10、20)上。?
7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述支撐件(10、20)由平坦的金屬部件制成并且被設(shè)計(jì)為沖壓件。?
8.一種用于加熱CVD反應(yīng)器(1)的基座(4)的設(shè)備,具有至少一個(gè)加熱件(9、19),所述加熱件(9、19)與至少一個(gè)接觸板(39、40)相連接,所述接觸板(39、40)借助連接件(30)相對(duì)于支撐板(29)被位置固定,其特征在于,所述連接件(30)分別插入所述支撐板(29)的開(kāi)口(41)中和所述接觸板(39、40)的開(kāi)口(42、43)中,并且在此通過(guò)形狀接合固定件被固定。?
9.如權(quán)利要求8所述的設(shè)備,其特征在于,所述形狀接合固定件固定在插入所述開(kāi)口(42、43)的絕緣體(35)中。?
10.如權(quán)利要求8或9所述的設(shè)備,其特征在于,所述至少一個(gè)接觸板(39、40)、所述支撐板(29)和所述至少一個(gè)加熱件(9、19)在三個(gè)彼此平行延伸的平面內(nèi)延伸,并且所述支撐板(29)支撐著支撐件(10、20),所述至少一個(gè)加熱件(9、19)借助所述支撐件(10、20)相對(duì)于所述支撐板(29)被位置固定。?
11.如權(quán)利要求8所述的設(shè)備,其特征在于,所述連接件(30)將兩個(gè)在平行平面內(nèi)彼此間隔布置的接觸板(39、40)相互連接,其中,所述連接件(30)穿過(guò)由絕緣材料制成的間隔體(37)。?
12.如權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其特征在于,所述連接件(30)是由金屬構(gòu)成的扁平體,并且所述形狀接合件被設(shè)計(jì)為凸起,所述凸起支撐在所述支撐板(29)或所述接觸板(39、40)的表面上或插入所述開(kāi)口(41、42、43)之一內(nèi)的插入件(35)上,和/或所述形狀接合固定件由所述連接件(30)的橫向開(kāi)口和插入其中的固定件的銷(xiāo)構(gòu)成。?
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
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