[實用新型]高溫反偏試驗設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420239087.3
• 申請日: 2014-05-09
• 公開（公告）號: CN203929991U
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發(fā)明（設計）人: 陸軍;馬永利;李秀青
• 申請（專利權）人: 南通華隆微電子有限公司
• 主分類號: G01R31/26
• 分類號: G01R31/26
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種高溫反偏試驗設備，尤其涉及一種可以分析產(chǎn)品性能的試驗設備。

背景技術

現(xiàn)有的用于測試二極管、三極管的高溫反偏試驗裝置由高溫烘箱、偏置板、反偏電源、及其控制系統(tǒng)、顯示系統(tǒng)等部分組成，該裝置包括電源、主控制系統(tǒng)、輔助控制系統(tǒng)、計算機、顯示器、接插件、偏置板、恒溫室，集中一起，設備體積龐大，價格昂貴，對于安裝場所要求進門大小和高度有特殊要求，所以該裝置使用條件受到很大限制。

但是由于高溫反偏性能是評估半導體產(chǎn)品可靠性的重要試驗設備，且產(chǎn)品在具體使用之前，不知道其能在承受設定溫度和電流下工作下多長時間，這給產(chǎn)品的使用帶來很大不便。

所以市場上急需一種高溫反偏試驗設備，其可以分析產(chǎn)品性能，提高產(chǎn)品可靠性。

實用新型內(nèi)容

為了克服上述現(xiàn)有技術存在的缺陷，本實用新型的目的在于提供一種高溫反偏試驗設備，其體積小、便于試驗使用，可以分析產(chǎn)品性能，提高產(chǎn)品可靠性。

為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型的技術方案是：

一種高溫反偏試驗設備，包括一設備主體，所述設備主體的上端面上設置有復數(shù)通孔，每個所述通孔內(nèi)設有一試驗基座，所述試驗基座上設置有三個供三極管/二極管的引腳插入用的插入孔，所述復數(shù)個試驗基座均與電線電性連接，并與所述設備主體固定連接。

作為本實用新型的優(yōu)選方案之一，所述插入孔的兩側均設置有支撐塊。

作為本實用新型的優(yōu)選方案之一，所述試驗基座包括一凸出部及一固定片，所述凸出部通過通孔凸出設備主體的上端面，所述固定部設置于設備主體上端面的下方，并與設備主體用螺絲固定連接。

作為本實用新型的優(yōu)選方案之一，所述設備主體為一長方體，為中空結構。

與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的有益效果是：

本實用新型結構簡單，成本低，體積小，可以方便快捷的得知三極管/二極管在承受設定溫度、設定電流下的最長工作時間，便于試驗使用，可以分析產(chǎn)品性能，提高產(chǎn)品可靠性。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型的結構特征和技術要點，下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型進行詳細說明。

圖1是本實用新型實施例公開的高溫反偏試驗設備的結構示意圖；

圖2是本實用新型實施例公開的試驗基座的結構示意圖。

附圖標記說明：1-設備主體，2-通孔，3-試驗基座，31-凸出部，31a-插入孔，31a-支撐塊，33-螺絲。

具體實施方式

下面將結合本實施例中的附圖，對實施例中的技術方案進行具體、清楚、完整地描述。

參見圖1所示，為本實施例的高溫反偏試驗設備，它包括一設備主體1，所述設備主體1為一長方體，為中空結構。

所述設備主體1的上端面上設置有復數(shù)通孔2，每個所述通孔2內(nèi)設有一試驗基座3，所述試驗基座3均與電線電性連接，并與所述設備主體1通過螺絲33固定連接。

所述試驗基座3包括一凸出部31及一固定部(圖中未顯示)，所述凸出部31通過通孔2凸出設備主體1的上端面，所述固定部設置于設備主體1上端面的下方，并與設備主體1用螺絲33固定連接。該試驗基座3的凸出部31上設置有三個供三極管/二極管的引腳插入用的插入孔31a，所述插入孔31a的兩側均設置有支撐塊31b。

試驗時，先設定好工作的溫度、電流，接通電源，將待試驗的若干個三極管/二極管分別插入插入孔31a，加溫，調(diào)節(jié)電流，就可得知該三極管/二極管能在承受設定溫度、電流通電情況下，能工作多長時間，在同電一定時間后，斷掉電源，統(tǒng)計在該工作情況下，該些三極管/二極管的不良率，如此便可分析產(chǎn)品性能，從而提高產(chǎn)品可靠性。

綜上所述，本實施例結構簡單，成本低，體積小，可以方便快捷的得知三極管/二極管在承受設定溫度、設定電流下的最長工作時間，便于試驗使用，可以分析產(chǎn)品性能，提高產(chǎn)品可靠性。

上述具體實施方式，僅為說明本實用新型的技術構思和結構特征，目的在于讓相關人士能夠據(jù)以實施，但以上所述內(nèi)容并不限制本實用新型的保護范圍，凡是依據(jù)本實用新型的精神實質所作的任何等效變化或修飾，均應落入本實用新型的保護范圍之內(nèi)。