[實用新型]一種可變衰減器裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420235738.1 | 申請日: | 2014-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN203825292U | 公開(公告)日: | 2014-09-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉洋 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(北京)有限公司 |
| 主分類號: | G02B26/02 | 分類號: | G02B26/02;G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人: | 李儀萍 |
| 地址: | 100176 北京市大興*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 可變 衰減器 裝置 | ||
技術領域
本實用新型屬于半導體設備領域,涉及一種曝光裝置,特別是涉及一種降低曝光系統(tǒng)中入射光強度的可變衰減器裝置。
背景技術
現(xiàn)代微電子技術的核心是集成電路生產(chǎn),而集成電路生產(chǎn)的發(fā)展又必須以半導體設備為其主要支撐條件,在當前集成電路生產(chǎn)設備中,光刻設備占最核心的地位。通過光刻裝置,具有不同掩模圖案的多層掩模早精確對準下依次成像在涂敷有光刻膠的硅片上,例如半導體硅片。光刻裝置大體上分為兩類,一類是步進光刻裝置,掩模圖案一次曝光成像在硅片的一個曝光區(qū)域,隨后硅片相對于掩模移動,將下一個曝光區(qū)域移動到掩模圖案和投影物鏡下方,再一次將掩模圖案曝光在硅片的另一曝光區(qū)域,重復這一過程直到硅片上所有曝光區(qū)域都擁有掩模圖案的像。另一類是步進掃描光刻裝置,在上述過程中,掩模圖案不是一次曝光成像,而是通過投影光場的掃描移動成像。在掩模圖案成像過程中,掩模與硅片同時相對于投影系統(tǒng)和投影光束移動。
在曝光工藝中,通常,掃描速度由機械控制,通過控制掃描速度來調(diào)節(jié)曝光劑量,掃描速度越低。曝光劑量越高;反之,掃描速度越高,曝光劑量越地。但是當所需的曝光劑量低到最高的掃描速度都無法滿足時,則需要尋找其他降低曝光劑量的方法,比如,降低入射光的強度。
現(xiàn)有技術中采用一種降低曝光系統(tǒng)中入射光強度的裝置來調(diào)節(jié)曝光劑量,如圖1所示,該裝置包括一塊傾斜的平板玻璃101A;光源發(fā)出的光束以一定的角度入射到所述平板玻璃101A上,光束透過平板玻璃101A之后相對于入射光發(fā)生了一定的衰減。但是,由于平板玻璃有一定的厚度,透射后的光束相對于入射光束有側(cè)向偏移。這種側(cè)向偏移會產(chǎn)生非對稱的環(huán)形光環(huán),無法保證曝光的質(zhì)量。
因此,提供一種降低曝光系統(tǒng)中入射光強度的裝置實屬必要。
實用新型內(nèi)容
鑒于以上所述現(xiàn)有技術的缺點,本實用新型的目的在于提供一種可變衰減器裝置,用于解決現(xiàn)有技術中入射光透過平板玻璃之后發(fā)生側(cè)向偏移的問題。
為實現(xiàn)上述目的及其他相關目的,本實用新型提供一種可變衰減器裝置,該裝置設置于入射光的光路上,所述可變衰減器裝置至少包括:第一平板玻璃和第二平板玻璃;且所述第一平板玻璃和第二平板玻璃形成“<”或“>”形狀,所述第一平板玻璃與水平面的夾角等于所述第二平板玻璃與水平面的夾角。
作為本實用新型可變衰減器裝置的一種優(yōu)化的結(jié)構,所述第一平板玻璃和第二平板玻璃的正、反表面上均涂有提高其反射率的薄膜材料。
作為本實用新型可變衰減器裝置的一種優(yōu)化的結(jié)構,所述第一平板玻璃與水平面的夾角范圍為40~50°;所述第二平板玻璃與水平面的夾角范圍為40~50°。
作為本實用新型可變衰減器裝置的一種優(yōu)化的結(jié)構,所述第一平板玻璃與水平面的夾角范圍為45°;所述第二平板玻璃與水平面的夾角范圍為45°。
作為本實用新型可變衰減器裝置的一種優(yōu)化的結(jié)構,所述第一平板玻璃和第二平板玻璃的厚度范圍均為1~10mm。
作為本實用新型可變衰減器裝置的一種優(yōu)化的結(jié)構,入射光經(jīng)過所述第一平板玻璃和第二平板玻璃的透光率范圍為0.05~0.95。
作為本實用新型可變衰減器裝置的一種優(yōu)化的結(jié)構,所述第一平板玻璃和第二平板玻璃的形狀均為方形。
作為本實用新型可變衰減器裝置的一種優(yōu)化的結(jié)構,所述入射光波長為193nm。
如上所述,本實用新型的可變衰減器裝置,所述可變衰減器裝置至少包括:第一平板玻璃和第二平板玻璃;所述第一平板玻璃和第二平板玻璃形成“<”或“>”形狀,所述第一平板玻璃與水平面的夾角等于所述第二平板玻璃與水平面的夾角。本實用新型可變衰減器裝置,由在入射光的光路上設置的第一平板玻璃和第二平板玻璃構成,可以降低入射光強度,同時透射光的強度不會發(fā)生側(cè)向偏離,滿足曝光工藝的工藝要求。
附圖說明
圖1為現(xiàn)有技術中可變衰減器裝置結(jié)構示意圖。
圖2為本實用新型的可變衰減器裝置結(jié)構示意圖。
元件標號說明
101A????平板玻璃
d???????側(cè)向偏移量
101?????第一平板玻璃
102?????第二平板玻璃
h???????厚度
具體實施方式
以下由特定的具體實施例說明本實用新型的實施方式,熟悉此技術的人士可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點及功效。
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