[實(shí)用新型]多孔金屬真空吸附工作盤(pán)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420209219.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-04-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203983251U | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-12-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李豐 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 李豐 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/683 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/683 |
| 代理公司: | 無(wú) | 代理人: | 無(wú) |
| 地址: | 110000 遼寧省*** | 國(guó)省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多孔 金屬 真空 吸附 工作 | ||
1.一種多孔金屬真空吸附工作盤(pán),其特征在于,所述多孔金屬真空吸附工作盤(pán)包括多孔金屬盤(pán)、金屬底座和定位固定塊;
所述金屬底座為環(huán)狀,多孔金屬盤(pán)位于環(huán)狀金屬底座的內(nèi)側(cè),定位固定塊位于金屬底座的外側(cè);
所述定位固定塊上設(shè)置有定位凹槽,定位凹槽包括一個(gè)第一凹槽和兩個(gè)第二凹槽,兩個(gè)第二凹槽位于第一凹槽的兩側(cè)。
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





