[實用新型]一種提高MOCVD外延片均勻性的實用石墨盤有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420203206.X | 申請日： | 2014-04-24 |
| 公開（公告）號： | CN203820926U | 公開（公告）日： | 2014-09-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李鴻漸;李盼盼;李志聰;孫一軍;王國宏 | 申請（專利權(quán)）人： | 揚州中科半導體照明有限公司 |
| 主分類號： | C30B25/12 | 分類號： | C30B25/12 |
| 代理公司： | 揚州市錦江專利事務(wù)所 32106 | 代理人： | 江平 |
| 地址： | 225009 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 提高 mocvd 外延 均勻 實用 石墨 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種提高MOCVD外延片均勻性的實用石墨盤，包括大石墨盤、小石墨盤，在大磨盤上設(shè)有通氣小孔和栓，在小石墨盤中心的背部設(shè)置與栓匹配的支撐凹槽，所述小石墨盤通過支撐凹槽和栓的配合布置在大石墨盤的上方；在小石墨盤上設(shè)置有中心片槽和邊緣片槽，所述邊緣片槽沿中心片槽的外周均布；其特征在于：在所述小石墨盤的中心片槽的內(nèi)底邊沿設(shè)有石墨三角形支撐物。
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