[實用新型]一種鍍膜設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420200549.0 | 申請日: | 2014-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN203794985U | 公開(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 艾青南;劉東;潘夢霄;周賀 | 申請(專利權)人: | 北京京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/513 | 分類號: | C23C16/513;C23C16/458 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鍍膜 設備 | ||
1.一種鍍膜設備,其特征在于,包括:真空反應腔體,以及位于真空反應腔體內(nèi)的上部電極板和下部電極板,所述設備還包括與所述下部電極板的支撐柱電連接的第一電機,所述第一電機位于所述真空反應腔體外部,用于控制所述下部電極板的水平旋轉。
2.根據(jù)權利要求1所述的設備,其特征在于,所述上部電極板的表面為圓形。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的設備,其特征在于,所述下部電極板的表面為圓形。
4.根據(jù)權利要求1所述的設備,其特征在于,所述第一電機為步進電機。
5.根據(jù)權利要求1所述的設備,其特征在于,所述設備還包括第二電機,所述第二電機位于所述真空反應腔體外部,與所述下部電極板的支撐柱電連接,用于控制所述下部電極板的垂直升降。
6.根據(jù)權利要求5所述的設備,其特征在于,所述設備還包括絕緣密封組件,所述絕緣密封組件與真空反應腔體的腔體壁和所述下部電極板的支撐柱相連,用于在所述下部電極板水平旋轉或垂直升降時,密封真空反應腔體的腔體壁和下部電極板的支撐柱之間的間隙。
7.根據(jù)權利要求6所述的設備,其特征在于,所述絕緣密封組件為充氣的氣動密封圈或高分子材料組成的密封圈。
8.根據(jù)權利要求1所述的設備,其特征在于,所述上部電極板包括上部背板和氣體擴散器。
9.根據(jù)權利要求8所述的設備,其特征在于,所述氣體擴散器包括多個雙錐形圓孔。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





