[實用新型]矩形平面磁控濺射靶材及磁控濺射靶裝置有效
| 申請號： | 201420197329.7 | 申請日： | 2014-04-22 |
| 公開（公告）號： | CN203782228U | 公開（公告）日： | 2014-08-20 |
| 發明（設計）人： | 李晨光 | 申請（專利權）人： | 南昌歐菲光科技有限公司;深圳歐菲光科技股份有限公司;蘇州歐菲光科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人： | 李昕巍;趙根喜 |
| 地址： | 330013 江西省南昌*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 矩形 平面 磁控濺射 裝置 | ||
1.一種矩形平面磁控濺射靶材，包含：
第一部分，對應位于其兩端區域的部分；
第二部分，對應位于所述兩端區域的之間區域的部分；
其特征在于：
所述第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度。
2.根據權利要求1所述的矩形平面磁控濺射靶材，其特征在于，所述第二部分與第一部分的厚度之差可以使得在磁控濺射過程中，所述第二部分不先于所述第一部分達到刻蝕最低值。
3.根據權利要求2所述的矩形平面磁控濺射靶材，其特征在于，所述第二部分與第一部分的厚度之差可以使得在磁控濺射過程中，所述第二部分與所述第一部分同時達到刻蝕最低值。
4.根據權利要求1-3任意一項所述的矩形平面磁控濺射靶材，其特征在于，所述第二部分比所述第一部分厚1-2mm。
5.根據權利要求4所述的矩形平面磁控濺射靶材，其特征在于，所述第一部分的厚度為7-9mm，所述第二部分的厚度為8-11mm。
6.根據權利要求7所述的矩形平面磁控濺射靶材，其特征在于，所述矩形平面磁控濺射靶材為一體式結構。
7.根據權利要求1所述的矩形平面磁控濺射靶材，其特征在于，所述第一部分和第二部分均為獨立結構。
8.一種矩形平面磁控濺射靶材，包括：
第一部分，對應位于均勻磁場區域的部分；
第二部分，對應位于非均勻磁場區域的部分；
其特征在于：
所述第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度。
9.一種磁控濺射靶裝置，包括：
背板以及貼覆在所述背板表面的矩形平面磁控濺射靶材；
其特征在于：
所述矩形平面磁控濺射靶材為如權利要求1-8任意一項所述的矩形平面磁控濺射靶材。
10.根據權利要求9所述的磁控濺射靶裝置，其特征在于，所述背板厚度為8mm。
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