[實用新型]一種激光微加工過程的反射式監測裝置

有效

• 申請號: 201420187421.5
• 申請日: 2014-04-17
• 公開（公告）號: CN203765162U
• 公開（公告）日: 2014-08-13
• 發明（設計）人: 田其立;尉鵬飛;王楠;朱海永;黃曉虹;黃運米;金清理;楊光參
• 申請（專利權）人: 溫州大學
• 主分類號: B23K26/03
• 分類號: B23K26/03;B23K26/70;B23K26/00
• 代理公司: 北京中北知識產權代理有限公司 11253
• 代理人: 李雪芳

1.一種激光微加工過程的反射式監測裝置，包括氦氖激光器（1），其特征在于：所述氦氖激光器（1）前端發射出的探測激光束（11）發射線路上設置有工件（2），所述工件（2）的探測激光束（11）反射線路上設置有第一光電探頭（3），且氦氖激光器（1）前端探測激光束（11）發射線路中部設置有激光分束片（4），通過所述激光分束片（4）將探測激光束（11）具體分成參考信號（41）和反射光信號（42），反射光信號（42）經過被工件（2）的反射后進入第一光電探頭（3），所述參考光信號（41）前端設置有第二光電探頭（5），參考光信號（41）直接進入第二光電探頭（5），所述第一光電探頭（3）上固定設置有第一數據線（6），第二光電探頭（5）上固定設置有第二數據線（7），所述第一數據線（6）和第二數據線（7）之間設置有示波器（8），且第一數據線（6）和第二數據線（7）均與示波器（8）電連接。

2.根據權利要求1所述的一種激光微加工過程的反射式監測裝置，其特征在于：所述第一數據線（6）和第二數據線（7）載有工件信息的反射光信號通過第一數據線（6）進入示波器（8），同時參考光信號（41）通過第二數據線（7）進入示波器（8）。

3.根據權利要求1或2所述的一種激光微加工過程的反射式監測裝置，其特征在于：所述氦氖激光器（1）發出的探測激光束，輸出波長為632.8nm。

4.根據權利要求3所述的一種激光微加工過程的反射式監測裝置，其特征在于：所述激光分束片（4）的分束比例為1:1。

5.根據權利要求4所述的一種激光微加工過程的反射式監測裝置，其特征在于：所述示波器（8）為雙通道示波器。