[實用新型]真空泵抽氣裝置有效

申請號：	201420185209.5	申請日：	2014-04-16
公開（公告）號：	CN203796528U	公開（公告）日：	2014-08-27
發明（設計）人：	周詩鐸;王楊;秦國強;趙慶;邊逸軍	申請（專利權）人：	武漢新芯集成電路制造有限公司
主分類號：	F04B39/12	分類號：	F04B39/12
代理公司：	上海申新律師事務所 31272	代理人：	吳俊
地址：	430205 湖北***	國省代碼：	湖北;42
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摘要：
搜索關鍵詞：	真空泵裝置
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【說明書】：

技術領域

本實用新型涉及一種半導體制造技術領域，尤其涉及一種真空泵抽氣裝置。

背景技術

在半導體器件的制備工藝時，機臺的反應管內進行的各種反應一般都需要進行抽氣操作，被抽的一部分氣體中含有灰塵和水蒸汽等微粒，若發生真空泵因故障而停機的情況，被抽取的氣體會被反灌到反應管內，氣體中的微粒會導致反應管內的晶圓表面落塵量超標，從而影響器件的性能。目前來說，已有的抽真空裝置大都采用一個真空泵對一個機臺進行抽真空，如圖1所示，一個真空泵1對一個機臺2的反應管7進行抽真空，該真空泵1通過管路連接到機臺2的主閥6，且該主閥6上設置有閥門開關，并通過控制閥門開關的角度來控制抽氣速度，其中該主閥與真空泵連接的管道上還設有只允許氣體單向流動的單向閥門即快速密封閥（Quick?Sealing?Valve，簡稱QSV）。

在生產過程中若真空泵因故障突然停機，此時管內仍然為真空，而從真空泵到機臺收到故障信號并關閉主閥需要一定的反應時間，在這段反應時間內，被抽取的氣體中的微粒會反灌進管內，從而導致了反應管內的晶圓表面落塵量超標，因此急需對真空泵抽氣裝置進行改進以減小真空泵故障對半導體器件制備工藝的負面影響。

中國專利（CN201916148U）公開了一種帶控制保護系統的真空泵,它包括:真空泵主體和真空泵主體的控制保護裝置,所述的控制保護裝置包括過濾除濕裝置防反灌裝置和真空度控制裝置,所述的過濾除濕裝置依次由玻璃纖維過濾層干燥除濕過濾層、吸附凈化過濾層和玻璃纖維過濾層組成；所述的真空度控制裝置包括真空度檢測裝置、真空度讀取裝置和PLC控制模塊。該實用新型提供的帶控制保護系統的真空泵,結構設計合理,操作方便,不僅能有效去除所抽氣體中的粉塵顆粒、水汽和腐蝕性有害氣體,并且真空度控制裝置可以自動控制真空泵的開啟與關閉,從而能延長真空泵的使用壽命,節約能源,降低成本。

中國專利（CN202659479U）公開了一種防止真空體系倒吸的裝置，包括真空泵電機、設置在真空泵電機上的接觸器及該真空泵電機的電機控制開關，以及控制系統PLC模塊和切斷真空管路機構,所述的控制系統PLC模塊檢測出真空泵電機非正常運作，可向所述的切斷真空管路系統發出指示信號。使用該實用新型提供的裝置解決真空體系的倒吸問題，可控率高，能夠有效杜絕任何介質的吸入；并且該實用新型施工簡單，運行穩定，有自控部分的自檢維護，操作簡便，易于與其他自控體系兼容。

上述專利均是采用不同的裝置保護真空泵，以及時的控制真空泵的工作狀態，但是設計均較為復雜，并且一旦真空泵發生故障，制備工藝就會中止，從而對半導體制備工藝造成影響。

實用新型內容

針對上述存在的問題，本實用新型公開了一種真空泵抽氣裝置，以解決現有技術中真空泵因故障突然停機時，被抽取的氣體中的微粒會反灌進管內，從而導致反應管內的晶圓表面落塵量超標的問題。

為達到上述目的，本實用新型采取如下具體技術方案：

一種真空泵抽氣裝置，應用于半導體器件的制備工藝中，其特征在于，所述裝置包括：至少一機臺、管道和若干真空泵；

每個所述機臺均通過所述管道分別與所述若干真空泵相連，以進行抽氣操作；

其中，與所述管道連接的真空泵的數量大于所述機臺的數量。

上述的一種真空泵抽氣裝置，其中，所述管道包括若干第一支管道，若干第二支管道和一主管道。

上述的一種真空泵抽氣裝置，其中，每個所述真空泵均通過一個所述第一支管道與所述主管道連通,每個所述機臺均通過一個所述第二支管道與所述主管道連通。

上述的一種真空泵抽氣裝置，其中，所述機臺包括反應管、主閥，所述反應管通過所述機臺的一內部管路連接所述主閥。

上述的一種真空泵抽氣裝置，其中，所述主閥上設有閥門開關，通過控制所述閥門開關的角度來控制抽氣速度。

上述的一種真空泵抽氣裝置，其中，所述主閥與所述真空泵的連接管道上還設有一單向閥門。