[實用新型]用于將鈍化涂層涂敷于晶圓的涂覆裝置有效
| 申請號: | 201420173064.7 | 申請日: | 2014-04-10 |
| 公開(公告)號: | CN203787396U | 公開(公告)日: | 2014-08-20 |
| 發明(設計)人: | 加西姆·阿茲達什;S·塔布里茲 | 申請(專利權)人: | 派克泰克封裝技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 鈍化 涂層 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種用于將鈍化涂層涂敷于晶圓的涂覆裝置。
背景技術
在接觸金屬(contact?metallization)形成于晶圓的端子面之前,用于生產芯片的晶圓設置有鈍化涂層。涂層的涂敷以及特別是涂敷涂層之后的晶圓表面上的涂層的干燥需要利用相應數量的設備對晶圓進行復雜的操作。
實用新型內容
本實用新型基于提出一種用于在晶圓表面上制造涂層的裝置的目的,該裝置一方面具有緊湊的結構且另一方面允許成本有效地工業生產晶圓表面的涂層。
本實用新型的用于將鈍化涂層涂敷于晶圓的涂覆裝置包括如下技術方案:
(1),提供一種用于將鈍化涂層涂敷于晶圓的涂覆裝置,包括:輸入/輸出站,該輸入/輸出站用于為所述涂覆裝置提供第一傳送保持件和第二傳送保持件,該第一傳送保持件用于提供多個晶圓,該第二傳送保持件用于從所述涂覆裝置移出所述晶圓;涂覆站,所述涂覆站包括:用于容納晶圓的轉盤;以及涂敷器,其用于將一定數量的鈍化劑涂敷于配置于所述轉盤的晶圓的中心部分;干燥裝置的至少一個干燥站,用于干燥已通過所述轉盤的轉動分散到晶圓表面的鈍化涂層;以及操縱裝置,所述操縱裝置包括操作臂,該操作臂能夠圍繞所述涂覆裝置的轉動軸樞轉,該操作臂用于從配置于所述輸入/輸出站中的所述第一傳送保持件拾起晶圓,將所述晶圓定位于所述涂覆站中和所述干燥站中,以及將所述晶圓放置于配置在所述輸入/輸出站中的所述第二傳送保持件。
(2)根據上述(1)所述的涂覆裝置,所述操縱裝置的所述操作臂設置有傳感器單元,該傳感器單元用于檢測配置于所述第一傳送保持件中的各個晶圓。
(3)根據上述(1)或(2)所述的涂覆裝置,所述操縱裝置被實施為擺動臂機械人,所述操縱裝置包括所述操作臂的高度能調節的樞軸基底、所述操作臂的第一擺動臂部分、所述操作臂的第二擺動臂部分以及操作端,所述樞軸基底配置于所述涂覆裝置的轉動軸,所述第一擺動臂部分連接于所述樞軸基底,所述第二擺動臂部分連接于所述第一擺動臂部分的遠離所述樞軸基底的端部,所述操作端能樞轉地連接于所述第二擺動臂部分的自由端且設置有至少一個抽吸開口,所述抽吸開口能夠形成負壓。
(4)根據上述(1)至(3)中任一方面所述的涂覆裝置,所述干燥裝置具有多個干燥站。
(5)根據上述(1)至(4)中任一方面所述的涂覆裝置,所述涂敷器能夠以使得其涂敷端到達所述轉盤的上方的方式樞轉,以使所述涂敷端配置于所述轉盤的轉軸的上方。
(6)根據上述(1)至(5)中任一方面所述的涂覆裝置,所述至少一個干燥站具有加熱裝置,所述加熱裝置被實施為接觸板,通過所述操縱裝置能夠將所述晶圓載置在所述接觸板上。
根據本實用新型的涂覆裝置允許將被實施為輸入/輸出站的裝置的外部接口以及裝置的其他站以中心轉軸為中心配置,該涂覆裝置具有操縱裝置,該操縱裝置可繞轉軸樞轉,隨后允許把持晶圓并將晶圓傳送至裝置的所有站中,操縱裝置允許將待涂覆的晶圓從配置于輸入/輸入站中的第一傳送保持件移出,且還允許將晶圓隨后定位于裝置的所有站中,且還允許將最終被涂覆的晶圓放置在第二傳送保持件中,該第二傳送保持件也位于裝置的輸入/輸出站中。
如果拾起各個晶圓的操縱裝置的操作臂設置有傳感器裝置,則是特別有利的,該傳感器裝置用于檢測配置于第一傳送保持件中的各個晶圓。因此,能夠在涂覆裝置中進行處理循環之前,檢測配置于傳送保持件中的晶圓的數量以及晶圓在傳送保持件中的位置。因此,確保了裝置中進行的涂覆處理不會由于缺少晶圓或不適當地定位晶圓而必須被中斷。替代地,一旦傳送保持件被定位于輸入/輸出站且完成傳送保持件中的晶圓的檢測,能夠在對外界密封的裝置中進行進一步的處理,而不必在正在運行的工序中介入臨時操作。事實上,直到在工序的開始包含于第一傳送保持件中的所有晶圓都已被涂覆且定位于第二傳送保持件中并且第二傳送保持件可從輸入/輸出站移出為止,操作者的接著的操作步驟都不是必須的。
特別有利的是,所述操縱裝置被實施為擺動臂機械人,所述操縱裝置包括所述操作臂的高度能調節的樞軸基底、所述操作臂的第一擺動臂部分、所述操作臂的第二擺動臂部分以及操作端,所述樞軸基底配置于所述涂覆裝置的轉動軸,所述第一擺動臂部分連接于所述基底,所述第二擺動臂部分連接于所述第一擺動臂部分的遠離所述基底的端部,所述操作端可樞轉地連接于所述第二擺動臂部分的自由端且設置有至少一個抽吸開口,所述抽吸開口能夠形成負壓。
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
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