[實(shí)用新型]一種超導(dǎo)磁體及磁共振成像系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420152583.5 | 申請(qǐng)日: | 2014-03-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203811790U | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·霍布斯 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 西門(mén)子(深圳)磁共振有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01R33/28 | 分類(lèi)號(hào): | G01R33/28;G01R33/3815 |
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| 地址: | 518057 廣東省深圳*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 超導(dǎo) 磁體 磁共振 成像 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及磁共振成像(MRI)技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種超導(dǎo)磁體以及應(yīng)用該超導(dǎo)磁體的磁共振成像系統(tǒng)。
背景技術(shù)
磁共振成像(Magnetic?Resonance?Imaging,MRI)是利用磁共振現(xiàn)象進(jìn)行成像的一種技術(shù)。磁共振現(xiàn)象的原理主要包括:包含單數(shù)質(zhì)子的原子核,例如人體內(nèi)廣泛存在的氫原子核,其質(zhì)子具有自旋運(yùn)動(dòng),猶如一個(gè)小磁體,并且這些小磁體的自旋軸沒(méi)有一定的規(guī)律,如果施加外在磁場(chǎng),這些小磁體將按外在磁場(chǎng)的磁力線重新排列,具體為在平行于或反平行于外在磁場(chǎng)磁力線的兩個(gè)方向排列,將上述平行于外在磁場(chǎng)磁力線的方向稱(chēng)為正縱向軸,將上述反平行于外在磁場(chǎng)磁力線的方向稱(chēng)為負(fù)縱向軸;原子核只具有縱向磁化分量,該縱向磁化分量既具有方向又具有幅度。用特定頻率的射頻(Radio?Frequency,RF)脈沖激發(fā)處于外在磁場(chǎng)中的原子核,使這些原子核的自旋軸偏離正縱向軸或負(fù)縱向軸,產(chǎn)生共振,這就是磁共振現(xiàn)象。上述被激發(fā)的原子核的自旋軸偏離正縱向軸或負(fù)縱向軸之后,該原子核就具有了橫向磁化分量。停止發(fā)射射頻脈沖后,被激發(fā)的原子核發(fā)射回波信號(hào),將吸收的能量逐步以電磁波的形式釋放出來(lái),其相位和能級(jí)都恢復(fù)到激發(fā)前的狀態(tài),將原子核發(fā)射的回波信號(hào)經(jīng)過(guò)空間編碼等進(jìn)一步處理即可重建圖像。
現(xiàn)有技術(shù)中,磁共振成像系統(tǒng)的超導(dǎo)磁體通常包括一內(nèi)部線圈以及集成安裝或分離安裝的一列外部線圈(或稱(chēng)屏蔽線圈)。此超導(dǎo)磁體位于一低溫容器內(nèi),該低溫容器位于一絕熱層內(nèi),該絕熱層位于一外部真空容器(Outer?Vacuum?Container,OVC)內(nèi),在任何情況下,病患都必須相對(duì)于超導(dǎo)磁體中心點(diǎn)的位置來(lái)保證高質(zhì)量的磁共振圖像。具體而言,通過(guò)將超導(dǎo)磁體支架固定于低溫容器的孔徑的方式將超導(dǎo)磁體支撐在低溫容器內(nèi)部,低溫容器的外表面具有懸架元件,該懸架元件的室溫端連接在外部真空容器上。
西門(mén)子專(zhuān)利(公開(kāi)號(hào)WO2008032110A1)公開(kāi)了一種懸架支柱,其中超導(dǎo)磁體被一懸架支柱所支撐,同時(shí)該懸架支柱還支撐著隔熱層和低溫容器或外部真空容器;在西門(mén)子專(zhuān)利(公開(kāi)號(hào)WO2008032110A1)的技術(shù)方案中,外部線圈(屏蔽線圈)通過(guò)一機(jī)械支撐結(jié)構(gòu)安裝在內(nèi)部線圈上,從而保證內(nèi)部線圈和外部線圈之間的位置關(guān)系。
但是上述現(xiàn)有技術(shù)中超導(dǎo)磁體的外部線圈和內(nèi)部線圈的空間精度還可以進(jìn)一步提高,同時(shí)現(xiàn)有技術(shù)的加工制造成本也特別昂貴。
實(shí)用新型內(nèi)容
為了提高超導(dǎo)磁體的內(nèi)部線圈和外部線圈的空間精度,根據(jù)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例提供一種超導(dǎo)磁體,包括:一內(nèi)部線圈,一外部線圈和一支柱結(jié)構(gòu),其中,所述支柱結(jié)構(gòu)呈柱狀,所述支柱結(jié)構(gòu)的軸向垂直于所述內(nèi)部線圈和外部線圈的軸向;所述外部線圈包括一開(kāi)口,所述支柱結(jié)構(gòu)的一第一端穿過(guò)所述開(kāi)口并與所述外部線圈的內(nèi)表面連接;所述支柱結(jié)構(gòu)包括一孔洞,所述內(nèi)部線圈穿過(guò)所述孔洞并連接在所述支柱結(jié)構(gòu)上。
優(yōu)選地,所述開(kāi)口與所述支柱結(jié)構(gòu)的外表面連接。
優(yōu)選地,所述外部線圈包括一個(gè)或多個(gè)加工開(kāi)口。
優(yōu)選地,所述支柱結(jié)構(gòu)是一體成型的或是由多個(gè)組件組裝成型的。
優(yōu)選地,所述支柱結(jié)構(gòu)包括一支架和一基座,其中,所述支架位于所述外部線圈內(nèi)部,所述基座位于所述外部線圈外部。
一種磁共振成像系統(tǒng),其特征在于,包括任一上述的超導(dǎo)磁體。
優(yōu)選地,還包括一低溫容器,所述低溫容器包括一第一安裝開(kāi)口,所述第一安裝開(kāi)口與所述支柱結(jié)構(gòu)的外表面匹配。
優(yōu)選地,還包括一絕熱層,所述絕熱層包括一第二安裝開(kāi)口,所述第二安裝開(kāi)口與所述支柱結(jié)構(gòu)的外表面匹配。
優(yōu)選地,還包括一外部真空容器,所述外部真空容器包括一第三安裝開(kāi)口,所述第三安裝開(kāi)口與所述支柱結(jié)構(gòu)的外表面匹配。
附圖說(shuō)明
圖1是根據(jù)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例的超導(dǎo)磁體的組裝立體圖。
圖2是根據(jù)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例的超導(dǎo)磁體的組裝端面圖。
圖3a是根據(jù)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例的超導(dǎo)磁體的支柱結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖3b是根據(jù)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例的超導(dǎo)磁體的內(nèi)部線圈的示意圖。
圖3c是根據(jù)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例的超導(dǎo)磁體的外部線圈的示意圖。
具體實(shí)施方式
為了使本實(shí)用新型的技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實(shí)施方式,對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施方式僅僅用以闡述性說(shuō)明本實(shí)用新型,并不用于限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
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