[實(shí)用新型]一種超導(dǎo)磁體及磁共振成像系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420152583.5 | 申請(qǐng)日: | 2014-03-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203811790U | 公開(公告)日: | 2014-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·霍布斯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西門子(深圳)磁共振有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01R33/28 | 分類號(hào): | G01R33/28;G01R33/3815 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518057 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 超導(dǎo) 磁體 磁共振 成像 系統(tǒng) | ||
1.一種超導(dǎo)磁體,其特征在于,包括:一內(nèi)部線圈,一外部線圈和一支柱結(jié)構(gòu),其中,
所述支柱結(jié)構(gòu)呈柱狀,所述支柱結(jié)構(gòu)的軸向垂直于所述內(nèi)部線圈和外部線圈的軸向;
所述外部線圈包括一開口,所述支柱結(jié)構(gòu)的一第一端穿過所述開口并與所述外部線圈的內(nèi)表面連接;
所述支柱結(jié)構(gòu)包括一孔洞,所述內(nèi)部線圈穿過所述孔洞并連接在所述支柱結(jié)構(gòu)上。
2.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)磁體,其特征在于,所述開口與所述支柱結(jié)構(gòu)的外表面連接。
3.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)磁體,其特征在于,所述外部線圈包括一個(gè)或多個(gè)加工開口。
4.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)磁體,其特征在于,所述支柱結(jié)構(gòu)是一體成型的或是由多個(gè)組件組裝成型的。
5.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)磁體,其特征在于,所述支柱結(jié)構(gòu)包括一支架和一基座,其中,所述支架位于所述外部線圈內(nèi)部,所述基座位于所述外部線圈外部。
6.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)磁體,其特征在于,所述支柱結(jié)構(gòu)是圓柱、棱柱或軸向截面為梯形的柱體。
7.一種磁共振成像系統(tǒng),其特征在于,包括如權(quán)利要求1-6中任一所述的超導(dǎo)磁體。
8.如權(quán)利要求7所述的磁共振成像系統(tǒng),其特征在于,還包括一低溫容器,所述低溫容器包括一第一安裝開口,所述第一安裝開口與所述支柱結(jié)構(gòu)的外表面匹配。
9.如權(quán)利要求7所述的磁共振成像系統(tǒng),其特征在于,還包括一絕熱層,所述絕熱層包括一第二安裝開口,所述第二安裝開口與所述支柱結(jié)構(gòu)的外表面匹配。
10.如權(quán)利要求7所述的磁共振成像系統(tǒng),其特征在于,還包括一外部真空容器,所述外部真空容器包括一第三安裝開口,所述第三安裝開口與所述支柱結(jié)構(gòu)的外表面匹配。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西門子(深圳)磁共振有限公司,未經(jīng)西門子(深圳)磁共振有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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