[實用新型]薄膜的制造設備

有效

• 申請號: 201420148256.2
• 申請日: 2014-03-28
• 公開（公告）號: CN203766039U
• 公開（公告）日: 2014-08-13
• 發明（設計）人: 伊藤和美;木村征克;小川祐二;廣幡大樹
• 申請（專利權）人: 宇部興產株式會社
• 主分類號: B29C71/02
• 分類號: B29C71/02;B29C31/00
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 謝順星;張晶

1.一種薄膜的制造設備，其特征在于，具有對薄膜進行應力衰減處理的應力衰減裝置，

所述應力衰減裝置具備浮置輸送裝置，該浮置輸送裝置從氣體噴射孔對薄膜噴出加熱氣體，以非接觸狀態對薄膜進行加熱并輸送；

所述浮置輸送裝置構成為：具備多個薄膜輸送導向器，所述多個薄膜輸送導向器具有設置有氣體噴射孔的凸曲面狀的薄膜輸送面，所述薄膜輸送導向器的凸曲面交替地在相反方向上排列，從所述氣體噴射孔對薄膜噴出加熱氣體，使薄膜交替地在相反方向上彎曲，以非接觸狀態輸送。

2.根據權利要求1所述的薄膜的制造設備，其特征在于，所述浮置輸送裝置構成為：還具備壓薄膜裝置，該壓薄膜裝置與所述薄膜輸送導向器的薄膜輸送面相對，具有在與該薄膜輸送面之間以規定間隙配置的凹曲面，并在該凹曲面上設置有氣體噴射孔，利用從所述薄膜輸送導向器的氣體噴射孔噴出的加熱氣體和從所述壓薄膜裝置的氣體噴射孔噴出的加熱氣體，對薄膜的兩面噴吹加熱氣體來進行浮置輸送。

3.根據權利要求1或2所述的薄膜的制造設備，其特征在于，所述多個薄膜輸送導向器構成為：能夠對從氣體噴射孔噴出的氣體的溫度進行單獨設定。

4.根據權利要求1或2所述的薄膜的制造設備，其特征在于，所述應力衰減裝置對將聚酰亞胺薄膜的前驅體進行加熱處理而得到的聚酰亞胺薄膜進行應力衰減處理。

5.根據權利要求1或2所述的薄膜的制造設備，其特征在于，將由所述薄膜輸送導向器形成的所述薄膜的輸送路徑上的一個彎曲部至下一個彎曲部的直線部的長度設定為50mm以下。

6.根據權利要求1或2所述的薄膜的制造設備，其特征在于，使所述薄膜輸送導向器的薄膜輸送面的曲率半徑為15mm以上且250mm以下。

7.根據權利要求1或2所述的薄膜的制造設備，其特征在于，將由所述薄膜輸送導向器形成的所述薄膜的輸送路徑上的沿一個薄膜輸送導向器的薄膜輸送面彎曲的角度設定為90～270°。

8.根據權利要求1或2所述的薄膜的制造設備，其特征在于，形成如下結構：所述薄膜輸送導向器的薄膜輸送面由多孔質材料形成，通過該多孔質材料噴出加熱氣體。