[實用新型]磁控濺射真空鍍膜設備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭

有效

• 申請號: 201420118637.6
• 申請日: 2014-03-17
• 公開（公告）號: CN203782227U
• 公開（公告）日: 2014-08-20
• 發明（設計）人: 劉曉華;李永才;陳鵬
• 申請（專利權）人: 大連遠東真空技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型屬于真空鍍膜設備，特別涉及一種磁控濺射真空鍍膜設備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭。?

背景技術

圓柱形磁控濺射陰極是真空鍍膜設備中的一個重要部件，目前大家應用的圓柱磁控濺射陰極的頭部，由于磁鋼的磁通量均勻一致，導致端頭處濺射刻蝕比其它部位嚴重，從而使靶材的利用率低。?

發明內容

本發明的目的在于克服上述技術不足，提供一種采取降低圓柱形磁控濺射陰極端頭部磁鋼磁通量，改進磁鋼的長度及其長度差，提高靶材利用率的磁控濺射真空鍍膜設備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭。?

本實用新型解決技術問題所采用的技術方案是：一種磁控濺射真空鍍膜設備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭，包括在靶管中心裝有靶芯，靶芯右端裝有定位套，定位套的外面裝有靶管堵，靶管堵的外面裝有靶管帽，靶芯用配重條和M3×6內六角螺釘與熱縮管固定在一起，其特征在于在靶芯與靶管之間裝有磁場強度5200GS的釹鐵硼的磁鋼b，磁鋼b的長度為Lb，Lb=20~30mm；磁鋼b的右面裝有磁場強度1500GS的鍶鐵氧體的磁鋼c，磁鋼c的長度為Lc，Lc=16~24mm；在磁鋼b和磁鋼c的兩側裝有磁場強度5200GS的釹鐵硼的磁鋼a，磁鋼a的長度為La，La=20~30mm；磁鋼c的右端面與磁鋼a的右端面長度差為Ln，Ln=10~50mm；磁鋼b的寬度為Wb，磁鋼a的寬度為Wa，磁鋼b的寬度Wb等于2倍的磁鋼a的寬度Wa；磁鋼c的長度Lc等于4/5的磁鋼b的長度Lb。?

本實用新型的有益效果是：該實用新型解決了圓柱磁控濺射陰極頭刻蝕嚴重的問題，大大提高了靶材利用率，節省了材料，降低了成本。?

附圖說明

以下結合附圖，以實施例具體說明。?

圖1是磁控濺射真空鍍膜設備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭的主視圖；?

圖2是圖1的A-A剖面圖。

圖中：1-磁鋼a；2-磁鋼b；3-磁鋼c；4-靶芯；5-靶管；6-靶管帽；7-定位套；8-O型圈；9-靶管堵；10-M3×6內六角螺釘；11-配重條；12-熱縮管。?

具體實施方式

實施例，參照附圖，一種磁控濺射真空鍍膜設備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭，包括在靶管5中心裝有靶芯4，靶芯4右端裝有定位套7，定位套7的外面裝有靶管堵9，靶管堵9的外面裝有靶管帽6，靶芯4用配重條11和M3×6內六角螺釘10與熱縮管12固定在一起，其特征在于在靶芯4與靶管5之間裝有磁場強度5200GS的釹鐵硼的磁鋼b2，磁鋼b2的長度為Lb，Lb=25mm；磁鋼b2的右面裝有磁場強度1500GS的鍶鐵氧體的磁鋼c3，磁鋼c3的長度為Lc，Lc=20mm；在磁鋼b2和磁鋼c3的兩側裝有磁場強度5200GS的釹鐵硼的磁鋼a1，磁鋼a1的長度為La，La=25mm；磁鋼c3的右端面與磁鋼a1的右端面長度差為Ln，Ln=30mm；磁鋼b2的寬度為Wb，磁鋼a1的寬度為Wa，磁鋼b2的寬度Wb等于2倍的磁鋼a1的寬度Wa；磁鋼c3的長度Lc等于4/5的磁鋼b2的長度Lb。靶管5與靶管堵9之間裝O型圈8，達到密封的目的。?

該實用新型的原理是：采用了不同材料的磁鋼和它的磁場強度的不同，以及改變了磁鋼a1和磁鋼b2寬度的不同，磁鋼b2和磁鋼c3的長度不同；磁鋼c3與磁鋼a1端頭的長度差La=25mm；這樣就使磁鋼a1和磁鋼c3磁力線軌跡由原來的短弧狀變成向外側拉出后再折回的類似長尖角的三角狀，實現了圓柱管靶材磁控濺射陰極頭部濺射刻蝕均勻的目的，大大的提高了陰極靶管5的利用率。?