[實用新型]磁控濺射真空鍍膜設備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭

有效

• 申請號: 201420118637.6
• 申請日: 2014-03-17
• 公開（公告）號: CN203782227U
• 公開（公告）日: 2014-08-20
• 發明（設計）人: 劉曉華;李永才;陳鵬
• 申請（專利權）人: 大連遠東真空技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種磁控濺射真空鍍膜設備中的圓柱管形磁控濺射陰極頭，包括在靶管（5）中心裝有靶芯（4），靶芯（4）右端裝有定位套（7），定位套（7）的外面裝有靶管堵（9），靶管堵（9）的外面裝有靶管帽（6），靶芯（4）用配重條（11）和M3×6內六角螺釘（10）與熱縮管（12）固定在一起，其特征在于在靶芯（4）與靶材（靶管）（5）之間裝有磁場強度5200GS的釹鐵硼的磁鋼b（2），磁鋼b（2）的長度為Lb，Lb=20~30mm；磁鋼b（2）的右面裝有磁場強度1500GS的鍶鐵氧體的磁鋼c（3），磁鋼c（3）的長度為Lc，Lc=16~24mm；在磁鋼b（2）和磁鋼c（3）的兩側裝有磁場強度5200GS的釹鐵硼的磁鋼a（1），磁鋼a（1）的長度為La，La=20~30mm；磁鋼c（3）的右端面與磁鋼a（1）的右端面長度差為Ln，Ln=10~50mm；磁鋼b（2）的寬度為Wb，磁鋼a（1）的寬度為Wa，磁鋼b（2）的寬度Wb等于2倍的磁鋼a（1）的寬度Wa；磁鋼c（3）的長度Lc等于4/5的磁鋼b（2）的長度Lb。