[實用新型]旋轉陰極的排水裝置有效
| 申請號: | 201420111949.4 | 申請日: | 2014-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN203715719U | 公開(公告)日: | 2014-07-16 |
| 發明(設計)人: | 楊元才;褚家寶;韓子水;譚新;錢彭亮 | 申請(專利權)人: | 上海福宜真空設備有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
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| 地址: | 201821 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 旋轉 陰極 排水 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種旋轉陰極,特別涉及一種應用于磁控濺射的旋轉陰極的排水裝置。
背景技術
真空磁控濺射鍍膜是當今應用范圍最廣的鍍膜技術,磁控濺射陰極作為磁控濺射設備的核心部件尤其重要,最終決定成膜質量和靶材利用率。目前普遍采用的是平面陰極,由于平面陰極只刻蝕靶材的局部區域,一段時間后會形成V狀深槽,影響后期膜層的均勻性和穩定性,而且靶材的利用率一般也不會超過40%,為了克服平面靶的諸多缺陷,旋轉陰極應運而生。
所謂旋轉陰極,就是柱型的靶管可繞其軸心旋轉,磁組件靜止不動,工作時靶管接負高壓,真空室腔壁接地電位,電場與磁場形成一個正交場,工作氣體分子被該正交場電離,產生了兩條平行于靶長度方向的靜止的直線等離子體,等離子體中的正離子受陰極靶負電勢吸引而轟擊靶面,靶面原子產生濺射逃逸出靶面,最終在基片表面形成薄膜。由于靶管在旋轉,兩條靜止的直線等離子體相對于靶面作掃描轟擊,因此靶面受到了較為均勻的濺射刻蝕,所以靶材利用率較高,這是它的優點。
但是,由于靶管內部充滿了冷卻水,換靶時如何把水排出,就必須考慮在內?,F有的排水方法是用壓縮空氣向旋轉陰極進出水管其中的一路吹氣,冷卻水從另一路流出,因為需要拆卸冷卻水管路,所以此方法操作繁瑣且不便,而且真空室也有可能被水滴污染,影響真空。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種結構簡單,拆卸方便,密封效果良好旋轉陰極的排水裝置。
為了實現上述目的,本實用新型設計了一種旋轉陰極的排水裝置,包含水路循環軸,所述水路循環軸的內部包含一個由第一進水通道和第二進水通道構成的中空結構;
其中,所述第二進水通道的開口直徑大于所述第一進水通道的開口直徑,且所述第二進水通道包含一個頭段和一個尾段,所述頭段的開口直徑小于所述尾段的開口直徑;
所述旋轉陰極的排水裝置還包含:設置在所述循環軸第二進水通道內的彈簧、與所述彈簧連接的密封板和位于所述密封板下方并固定在所述第二進水通道尾段的出水器殼體、貫穿所述出水器殼體并抵住密封板的螺栓;
其中,所述彈簧插入所述第二進水通道內并抵住第二進水通道頭段的端面;所述密封板位于所述第二進水通道的尾段,且所述密封板的直徑與所述第二進水通道尾部開口的直徑大小相匹配;
所述出水器殼體具有一個與所述第二進水通道連通的出水通道。
本實用新型的實施方式相對于現有技術而言,結構簡單、拆裝方便、密封效果良,當換靶時,只需將螺栓從出水器殼體內逐漸旋進,并推動密封板向上運動對其彈簧進行壓縮,使得密封板與出水器殼體分離,從而使得靶筒內的水可通過第一進水通道流入第二進水通道后從出水器殼體的出水通道排出,即可完成整個換靶時的排水過程。
其中,所述出水器殼體與所述第二進水通道尾段之間還設有密封件。且所述密封件包含設置在所述出水器殼體兩側的密封壓環、密封環和膠圈。其中,所述密封壓環的底部為一個壓緊所述水路循環軸底端的凸緣部。通過密封件可確保出水器殼體與水路循環軸之間的密封性能,在對靶材進行濺射時可保證冷卻水是在密封板以上的區域內,確保濺射時對靶材的冷卻性能。
并且,為了滿足實際的使用需求,所述出水通道可以是開設在所述出水器殼體底部的出水口,并沿所述出水口向所述出水器殼體的上端面進行延伸所形成的貫通結構?;蛘撸龀鏊ǖ揽砂_設在所述出水器殼體側面的出水口,以及開設在所述出水器殼體內部并與所述第二進水通道連通的入水通道;所述出水口與所述入水通道導通。工作人員可根據實際的使用需求進行選擇。
附圖說明
圖1為本實用新型第一實施方式的旋轉陰極的排水裝置的結構示意圖;
圖2為本實用新型第二實施方式的旋轉陰極的排水裝置的結構示意圖。
具體實施方式
為使本實用新型的目的、技術方案和優點更加清楚,下面將結合附圖對本實用新型的各實施方式進行詳細的闡述。然而,本領域的普通技術人員可以理解,在本實用新型各實施方式中,為了使讀者更好地理解本申請而提出了許多技術細節。但是,即使沒有這些技術細節和基于以下各實施方式的種種變化和修改,也可以實現本申請各權利要求所要求保護的技術方案。
本實用新型的第一實施方式涉及一種旋轉陰極的排水裝置,如圖1所示,包含水路循環軸1,水路循環軸1的內部包含一個由第一進水通道12和第二進水通道13構成的中空結構。
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