[實用新型]改進拋光件吸附方式的拋光機

有效

• 申請號: 201420100924.4
• 申請日: 2014-03-07
• 公開（公告）號: CN203726328U
• 公開（公告）日: 2014-07-23
• 發明（設計）人: 汪興;劉亞彪;楊會義;劉仲寧;周繼國;李新良
• 申請（專利權）人: 湖南永創機電設備有限公司
• 主分類號: B24B37/30
• 分類號: B24B37/30
• 代理公司: 南昌新天下專利商標代理有限公司 36115
• 代理人: 謝德珍

技術領域

本實用新型涉及一種拋光機，尤其涉及一種改進拋光件吸附方式的拋光機。

背景技術

目前拋光機所加工的玻璃都是貼在拋光機的上盤或下盤的平面來進行加工，靠聚酯合成材料的吸附墊吸附在上、下盤的平面上進行研磨拋光。現有拋光機的上、下盤多為平面無孔結構，且都不具有真空吸附功能，這些拋光機主要是依靠特殊材質的吸附墊來完成待拋光玻璃的貼合固定，吸附墊背面通過膠水、粘結劑等與上、下盤粘合，吸附墊正面則由許多質地細密的凹槽型小孔組成，緊壓后將小孔內空氣排出即具有真空吸附功能。經過一段時間的使用后，拋光粉會逐漸滲透到吸附墊正面的小孔內，使原有的小孔不具有真空吸附功能而不能使用，必須頻繁更換。按拋光機每天工作八小時計算，聚酯合成材料的吸附墊每隔幾天就得更換一次，由此導致聚酯合成材料的吸附墊作為一種拋光用耗材的成本一直居高不下。

另外，拋光機每加工完一片玻璃需要剝離去除吸附在玻璃上的吸附墊，按照現有的工藝只能靠人工一點點吹氣或滲水的方法來移除，相當費時費力，且影響整個拋光機的自動化程度。現有技術中也有公開了將拋光機的上盤與一陶瓷移動盤進行真空吸附連接的方式，但是陶瓷移動盤的設置不僅增加了設備成本，而且陶瓷移動盤的質量較重，拋光所需的功耗大大增加，拋光晶片安置于陶瓷移動盤上不僅費時費力，而且這種硬性接觸容易在拋光時造成晶片損壞，拋光質量也無法保證；現有技術中也有直接采用開孔的真空吸盤吸附工件的情形，但這種真空吸附方式往往氣密性不佳，導致真空吸附所需的吸附壓力過大，這不僅容易造成工件的變形而影響拋光精度，而且同樣容易造成工件的損壞，而且拋光粉等雜質如果進入到真空吸盤上開設的細孔中，不僅清理困難，嚴重時需要更換整個真空吸盤，成本大大增加。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是克服現有技術的不足，提供一種結構簡單、成本低、投資小、操作方便、有利于實現后期自動化拋光的改進拋光件吸附方式的拋光機。

為解決上述技術問題，本實用新型提出的技術方案為一種改進拋光件吸附方式的拋光機（上吸式），包括機架、吸附上盤、吸附下盤、上盤驅動系統、下盤驅動系統和抽真空系統，上盤驅動系統包括一中心軸，中心軸的底部與吸附上盤相連接，所述中心軸內開設有封閉式連接氣路，中心軸靠近底部位置設有一旋轉氣路接頭，旋轉氣路接頭的內端通過封閉式連接氣路與所述抽真空系統相連，旋轉氣路接頭的外端設有多個氣路接口，所述吸附上盤開設有多個氣路通孔，各氣路接口通過連接氣管與吸附上盤上開設的氣路通孔的上端連通；所述吸附上盤下方設有緊貼其下表面的緩沖墊，所述緩沖墊的表面開設有通透式吸附槽（該吸附槽包括孔形、條形、L形等各種通透式結構），所述氣路通孔的下端對齊所述吸附槽。

上述的拋光機中，優選的，所述多個氣路接口沿所述旋轉氣路接頭的中心轉軸呈中心對稱分布。這樣的氣路接口設置有利于配合后續吸附槽的優化布置，使緩沖墊能夠均勻受力，更好地吸附拋光件達到拋光效果。更優選的，所述吸附上盤開設的多個氣路通孔沿吸附上盤的中心轉軸呈中心對稱分布。這樣的氣路通孔布置有利于與旋轉氣路接頭對接和連接氣路中間增加通斷閥門，而且同樣有利于配合后續吸附槽的優化布置。更優選的，各連接氣管上還設有通斷閥門，這使得本實用新型的拋光機具有適應大小不同型號玻璃進行拋光操作的兼容性；若遇到小型號玻璃，只需要關閉玻璃所覆蓋范圍外的真空氣路即可，而且還有利于玻璃的取片，在取片時，只需要關閉負壓，接入正壓吹氣就能去除真空，順利取下待拋光玻璃件，無須人工吹氣或滲水來移除。

上述的拋光機中，優選的，所述緩沖墊是通過粘結劑粘合方式或通過真空吸附方式緊貼在吸附上盤的下表面上；粘結劑粘合方式更加穩定可靠；但真空吸附方式將使得緩沖墊的清理和更換更加快捷和方便，有利于實現整個拋光機的全自動化，還可充分利用拋光機配套設置的抽真空系統。當采用真空吸附方式時，所述吸附上盤上增設有部分不對準所述吸附槽的吸附孔，該吸附孔通過連接氣管與所述旋轉氣路接頭外端設置的氣路接口連通，通過該吸附孔可將緩沖墊吸附貼合在吸附上盤的下表面。