[實用新型]改進拋光件吸附方式的拋光機

有效

• 申請號: 201420100924.4
• 申請日: 2014-03-07
• 公開（公告）號: CN203726328U
• 公開（公告）日: 2014-07-23
• 發明（設計）人: 汪興;劉亞彪;楊會義;劉仲寧;周繼國;李新良
• 申請（專利權）人: 湖南永創機電設備有限公司
• 主分類號: B24B37/30
• 分類號: B24B37/30
• 代理公司: 南昌新天下專利商標代理有限公司 36115
• 代理人: 謝德珍

1.一種改進拋光件吸附方式的拋光機，包括機架、吸附上盤、吸附下盤、上盤驅動系統、下盤驅動系統和抽真空系統，上盤驅動系統包括一中心軸，中心軸的底部與吸附上盤相連接，其特征在于：所述中心軸內開設有封閉式連接氣路，中心軸靠近底部位置設有一旋轉氣路接頭，旋轉氣路接頭的內端通過封閉式連接氣路與所述抽真空系統相連，旋轉氣路接頭的外端設有多個氣路接口，所述吸附上盤開設有多個氣路通孔，各氣路接口通過連接氣管與吸附上盤上開設的氣路通孔的上端連通；所述吸附上盤下方設有緊貼其下表面的緩沖墊，所述緩沖墊的表面開設有通透式吸附槽，所述氣路通孔的下端對齊所述吸附槽。

2.根據權利要求1所述的拋光機，其特征在于：所述多個氣路接口沿所述旋轉氣路接頭的中心轉軸呈中心對稱分布；所述吸附上盤開設的多個氣路通孔沿吸附上盤的中心轉軸呈中心對稱分布；各連接氣管上設有通斷閥門。

3.根據權利要求1或2所述的拋光機，其特征在于：所述緩沖墊是通過粘結劑粘合方式或通過真空吸附方式緊貼在吸附上盤的下表面上；

當采用真空吸附方式時，所述吸附上盤上增設有部分不對準所述吸附槽的吸附孔，所述吸附孔通過連接氣管與所述旋轉氣路接頭外端設置的氣路接口連通。

4.一種改進拋光件吸附方式的拋光機，包括機架、吸附上盤、吸附下盤、上盤驅動系統、下盤驅動系統和抽真空系統，下盤驅動系統包括一中心軸，中心軸的頂部與吸附下盤相連接，其特征在于：所述中心軸內開設有封閉式連接氣路，中心軸靠近底部位置設有一旋轉氣路接頭，旋轉氣路接頭的上端與所述封閉式連接氣路的底端相連通，旋轉氣路接頭的下端與所述抽真空系統相連，所述封閉式連接氣路上部連通至中心軸外側開設的氣路接口，該氣路接口通過連接氣管與吸附下盤上開設的氣路通孔的底端連通；所述吸附下盤上方設有緊貼其上表面的緩沖墊，所述緩沖墊的表面開設有通透式吸附槽，所述氣路通孔的上端對齊所述吸附槽。

5.根據權利要求4所述的拋光機，其特征在于：所述氣路通孔的底端設有真空腔，該真空腔位于機座和吸附下盤之間，所述連接氣管是通過該真空腔與所述吸附下盤上開設的氣路通孔連通。

6.根據權利要求5所述的拋光機，其特征在于：所述中心軸外側僅開設一個氣路接口，該氣路接口通過一連接氣管與所述真空腔連通。

7.根據權利要求5或6所述的拋光機，其特征在于：所述真空腔被分隔成多個真空子腔，且這多個真空子腔呈中心向外圍擴散方式布置，各個真空子腔之間相互連通。

8.根據權利要求1～7中任一項所述的拋光機，其特征在于：所述吸附槽設置有多條，這多條的吸附槽在緩沖墊表面呈中心向外圍擴散方式布置；

當所述緩沖墊緊貼吸附上盤的下表面設置時，所述吸附上盤的下表面開設有與所述吸附槽對齊的非通透式凹槽，所述氣路通孔的下端連通至該非通透式凹槽；

當所述緩沖墊緊貼吸附下盤的上表面設置時，所述吸附下盤的上表面開設有與所述吸附槽對齊的非通透式凹槽，所述氣路通孔的上端連通至該非通透式凹槽。

9.根據權利要求8所述的拋光機，其特征在于：所述吸附槽呈類似“回”字形布置，且每兩條U形的吸附槽對接后組成一個回路，位于同一回路的兩條U形的吸附槽之間相互隔斷。

10.根據權利要求1～7中任一項所述的拋光機，其特征在于：所述緩沖墊采用橡膠墊材料制作。