[實(shí)用新型]一種用于提高磁控濺射鍍膜靶材利用率的靶材

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420082877.5
• 申請(qǐng)日: 2014-02-26
• 公開（公告）號(hào): CN203947153U
• 公開（公告）日: 2014-11-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周航鋒;賀偉;侍進(jìn)山;徐博文;李景;李信;陳武;萬(wàn)祿兵
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖南中好科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 湖南省婁底市興婁專利事務(wù)所 43106
• 代理人: 朱成實(shí)

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及濺射靶材，尤其是指一種用于提高磁控濺射鍍膜靶材利用率的靶材。

背景技術(shù)

磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E電場(chǎng)×B磁場(chǎng)所指的方向漂移，簡(jiǎn)稱E×B漂移，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng)，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動(dòng)，它們的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長(zhǎng)，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar?來(lái)轟擊靶材，從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠(yuǎn)離靶表面，并在電場(chǎng)E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。為了在低氣壓下進(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率的方法。但現(xiàn)有的靶材在制作時(shí)材料浪費(fèi)大、濺射效果不佳。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種用于提高磁控濺射鍍膜靶材利用率的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、濺射效果好、制造成本低的靶材。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型所提供的技術(shù)方案為：一種用于提高磁控濺射鍍膜靶材利用率的靶材，靶材主體采用多段組合式結(jié)構(gòu)，組合后的主體頂部設(shè)有下凹的濺射槽，濺射槽的濺射面中部沿主體長(zhǎng)度方向凸起，使濺射面橫截面呈W狀，主體下端設(shè)有凹或凸的定位槽。

所述的靶材為三段，位于兩端的靶材上的濺射槽端部采用弧形結(jié)構(gòu)收尾。

本實(shí)用新型與現(xiàn)有平面結(jié)構(gòu)型的濺射面不同的是：本方案設(shè)計(jì)有濺射槽以適應(yīng)濺射不同位置，進(jìn)而提高濺射靶材的使用效率，進(jìn)一步增加靶材的使用壽命，而且本方案靶材底部不需要采用膠水粘接，使用操作方便，減少靶材體積，降低制造成本。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型靶材底部示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合所有附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明，本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例為：參見附圖1和附圖2，本實(shí)施例所述的用于提高磁控濺射鍍膜靶材利用率的靶材，靶材1主體采用多段組合式結(jié)構(gòu)，組合后的主體頂部設(shè)有下凹的濺射槽2，濺射槽2的濺射面中部沿主體長(zhǎng)度方向凸起，使濺射面橫截面呈W狀，主體下端設(shè)有凹或凸的定位槽3。本實(shí)施例的靶材1為三段，位于兩端的靶材1上的濺射槽2端部采用弧形結(jié)構(gòu)收尾。本實(shí)施例通過(guò)濺射槽以適應(yīng)濺射不同位置，進(jìn)而提高濺射靶材的使用效率，進(jìn)一步增加靶材的使用壽命。

以上所述之實(shí)施例只為本實(shí)用新型之較佳實(shí)施例，并非以此限制本實(shí)用新型的實(shí)施范圍，故凡依本實(shí)用新型之形狀、原理所作的變化，均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。