[實(shí)用新型]一種晶圓邊緣清洗裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420072365.0
• 申請(qǐng)日: 2014-02-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203707094U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐強(qiáng);劉永
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中芯國(guó)際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;B08B3/00
• 代理公司: 上海光華專利事務(wù)所 31219
• 代理人: 李儀萍

1.一種晶圓邊緣清洗裝置，其特征在于，所述晶圓邊緣清洗裝置至少包括：

提供晶圓清洗液的至少一條供應(yīng)管道，具有靠近晶圓邊緣的管道口；所述管道口邊緣設(shè)置有突起；

內(nèi)置于所述管道口且與所述突起固定連接的清洗刷；

夾持在所述供應(yīng)管道表面且用于固定所述供應(yīng)管道的夾持件；

套接在所述夾持件表面且用于控制所述清洗刷接觸或離開(kāi)所述晶圓邊緣的主控部件；

以及支撐所述晶圓并控制晶圓旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)控制裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓邊緣清洗裝置，其特征在于：所述清洗刷為PVA海綿。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶圓邊緣清洗裝置，其特征在于：所述清洗刷呈U字形，所述U字形內(nèi)壁上具有清洗晶圓邊緣的齒狀結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓邊緣清洗裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)控制裝置為真空控制裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的晶圓邊緣清洗裝置，其特征在于：所述晶圓旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速為300～600轉(zhuǎn)每分鐘。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓邊緣清洗裝置，其特征在于：所述主控部件為氣缸。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓邊緣清洗裝置，其特征在于：所述供應(yīng)管道為相對(duì)設(shè)置的兩條供應(yīng)管道，每一條供應(yīng)管道的管道口內(nèi)置一個(gè)清洗刷。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓邊緣清洗裝置，其特征在于：所述清洗液通過(guò)供應(yīng)管道流動(dòng)至所述清洗刷并通過(guò)清洗刷滲透到晶圓邊緣。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的晶圓邊緣清洗裝置，其特征在于：所述清洗液為檸檬酸。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓邊緣清洗裝置，其特征在于：所述晶圓邊緣清洗裝置還包括位于所述晶圓上方、用于對(duì)所述清洗刷進(jìn)行沖洗的兩個(gè)噴嘴。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的晶圓邊緣清洗裝置，其特征在于：所述晶圓邊緣清洗裝置還包括與所述噴嘴連接且用于帶動(dòng)所述噴嘴旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件。