[實用新型]磁控濺射旋轉靶有效
| 申請號： | 201420062629.4 | 申請日： | 2014-02-11 |
| 公開（公告）號： | CN203741407U | 公開（公告）日： | 2014-07-30 |
| 發明（設計）人： | 肖世文 | 申請（專利權）人： | 廣州市尤特新材料有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人： | 譚英強 |
| 地址： | 510880 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磁控濺射 旋轉 | ||
【權利要求書】：
1.一種磁控濺射旋轉靶，其特征在于：包括管狀的襯管(1)和固定套接在襯管(1)外壁上并隨襯管(1)旋轉的靶材(2)，所述襯管(1)和靶材(2)的連接面上設有中間層，所述中間層為導電膠(3)。
2.根據權利要求1所述的磁控濺射旋轉靶，其特征在于：所述導電膠(3)的厚度為0.05-0.2mm。
3.根據權利要求1所述的磁控濺射旋轉靶，其特征在于：所述導電膠(3)包括銀導電膠、銅導電膠或鋁導電膠。
4.根據權利要求1所述的磁控濺射旋轉靶，其特征在于：所述靶材(2)的材質為合金、陶瓷、石墨或硅。
5.根據權利要求1所述的磁控濺射旋轉靶，其特征在于：所述襯管(1)由導體材質制成。
6.據權利要求1至5中任一項所述的磁控濺射旋轉靶，其特征在于：所述襯管(1)與靶材(2)螺紋連接，所述導電膠(3)均布于螺紋連接面上且充滿襯管(1)與靶材(2)的螺紋間隙。
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