[實用新型]厚片硅料的清洗裝置

有效

• 申請號: 201420055638.0
• 申請日: 2014-01-28
• 公開（公告）號: CN203803852U
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發明（設計）人: 蘇陽
• 申請（專利權）人: 包頭市山晟新能源有限責任公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B3/08
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 趙根喜;李昕巍

1.一種厚片硅料的清洗裝置，其特征在于，所述厚片硅料的清洗裝置包括依次設置的堿洗發生器、第一階梯溢流槽和第一超聲清洗槽：?

所述堿洗發生器包括盛液槽、攪拌器、進水口和排液口，所述盛液槽用于盛裝對所述厚片硅料進行堿洗的濃度為30-40％的氫氧化鈉溶液或用于對所述厚片硅料堿洗后進行沖洗的純水；所述攪拌器設置于所述盛液槽的上方，能夠伸入所述氫氧化鈉溶液中對所述氫氧化鈉溶液進行攪拌，所述純水的所述進水口設置在所述盛液槽的頂部，用于排出所述氫氧化鈉溶液的所述排液口設置在所述盛液槽的底部；?

所述第一階梯溢流槽包括一個或多個多級溢流槽；?

所述第一超聲清洗槽內設置有裝載所述厚片硅料的超聲花籃。?

2.如權利要求1所述的厚片硅料的清洗裝置，其中所述堿洗發生器和所述第一階梯溢流槽之間、所述第一階梯溢流槽和所述第一超聲清洗槽之間均設置有傳片裝置。?

3.如權利要求2所述的厚片硅料的清洗裝置，其中所述攪拌器為一個或多個。?

4.如權利要求1所述的厚片硅料的清洗裝置，其中所述第一階梯溢流槽包括兩個依次設置的三級溢流槽。?

5.如權利要求1所述的厚片硅料的清洗裝置，其中所述清洗裝置還包括在所述第一超聲清洗槽之后依次設置的酸洗槽、第二階梯溢流槽、第二超聲清洗槽、甩干機和烘箱。?

6.如權利要求5所述的厚片硅料的清洗裝置，其中所述烘箱之后還設置有分類放置區。?