[實(shí)用新型]厚片硅料的清洗裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420055638.0
• 申請(qǐng)日: 2014-01-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203803852U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘇陽(yáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 包頭市山晟新能源有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): B08B3/12
• 分類號(hào): B08B3/12;B08B3/08
• 代理公司: 隆天國(guó)際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 趙根喜;李昕巍

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及光伏技術(shù)領(lǐng)域，尤其與一種厚片硅料的清洗裝置有關(guān)。?

背景技術(shù)

在光伏行業(yè)，單晶拉晶、多晶鑄錠所產(chǎn)生的厚片硅料的回收料，可以在進(jìn)行清洗達(dá)到拉晶、鑄錠要求后，進(jìn)行再利用。?

但厚片硅料清洗工藝一直是困惑硅料清洗技術(shù)人員的一道難題，主要原因是厚片硅料正常清洗工藝存在以下問(wèn)題：?

1.現(xiàn)有技術(shù)中，厚片硅料通常用混酸進(jìn)行清洗，厚片硅料在往酸洗花籃里擺放時(shí)，不重疊的可能性幾乎沒(méi)有，只要重疊，重疊面無(wú)法得到腐蝕液的腐蝕，起不到清洗效果，如流入下一工序，會(huì)對(duì)單晶拉晶、多晶鑄錠質(zhì)量造成影響；?

2.厚片硅料因?yàn)楸砻娣e較大，腐蝕速度過(guò)快，極易導(dǎo)致硅料氧化，造成硅料清洗不合格。?

3.厚片硅料因表面積較大，耗酸量較正常硅料大1倍左右，清洗成本較高。?

因此，需要開(kāi)發(fā)一種厚片硅料的清洗裝置，以解決上述問(wèn)題。?

實(shí)用新型內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題，本實(shí)用新型的目的為提供一種厚片硅料的清洗裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的清洗質(zhì)量差和成本高的技術(shù)問(wèn)題。?

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：?

一種厚片硅料的清洗裝置，所述厚片硅料的清洗裝置包括依次設(shè)置的堿洗發(fā)生器、第一階梯溢流槽和第一超聲清洗槽：所述堿洗發(fā)生器包括盛液槽、?攪拌器、進(jìn)水口和排液口，所述盛液槽用于盛裝對(duì)所述厚片硅料進(jìn)行堿洗的濃度為30-40％的氫氧化鈉溶液或用于對(duì)所述厚片硅料堿洗后進(jìn)行沖洗的純水；所述攪拌器設(shè)置于所述盛液槽的上方，能夠伸入所述氫氧化鈉溶液中對(duì)所述氫氧化鈉溶液進(jìn)行攪拌，所述純水的所述進(jìn)水口設(shè)置在所述盛液槽的頂部，用于排出所述氫氧化鈉溶液的所述排液口設(shè)置在所述盛液槽的底部；所述第一階梯溢流槽包括一個(gè)或多個(gè)多級(jí)溢流槽；所述第一超聲清洗槽內(nèi)設(shè)置有裝載所述厚片硅料的超聲花籃。?

本實(shí)用新型的厚片硅料的清洗裝置，優(yōu)選的，所述堿洗發(fā)生器和所述第一階梯溢流槽之間、所述第一階梯溢流槽和所述第一超聲清洗槽之間均設(shè)置有傳片裝置。?

本實(shí)用新型的厚片硅料的清洗裝置，優(yōu)選的，所述攪拌器為一個(gè)或多個(gè)。?

本實(shí)用新型的厚片硅料的清洗裝置，優(yōu)選的，所述第一階梯溢流槽包括兩個(gè)依次設(shè)置的三級(jí)溢流槽。?

本實(shí)用新型的厚片硅料的清洗裝置，優(yōu)選的，所述清洗裝置還包括在所述第一超聲清洗槽之后依次設(shè)置的酸洗槽、第二階梯溢流槽、第二超聲清洗槽甩干機(jī)和烘箱。?

本實(shí)用新型的厚片硅料的清洗裝置，優(yōu)選的，所述烘箱之后還設(shè)置有分類放置區(qū)。?

本實(shí)用新型的有益效果在于，本實(shí)用新型的厚片硅料的清洗裝置，先將厚片硅料置于堿洗發(fā)生器中使用氫氧化鈉溶液進(jìn)行堿洗，堿洗過(guò)程中充分?jǐn)嚢瑁コ衿枇媳砻娴挠袡C(jī)沾污，再置于廢混酸溶液中進(jìn)行浸泡，去除堿殘留及金屬沾污，使厚片硅料達(dá)到拉晶，及鑄錠要求。提高了清洗質(zhì)量，降低了生產(chǎn)成本。?

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的厚片硅料的清洗裝置的示意圖。?

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例的厚片硅料的清洗裝置中堿洗發(fā)生器的示意圖。?

具體實(shí)施方式

體現(xiàn)本實(shí)用新型特征與優(yōu)點(diǎn)的典型實(shí)施例將在以下的說(shuō)明中詳細(xì)敘述。應(yīng)理解的是，本實(shí)用新型能夠在不同的實(shí)施例上具有各種的變化，其皆不脫離本實(shí)用新型的范圍，且其中的說(shuō)明及附圖在本質(zhì)上是當(dāng)作說(shuō)明之用，而非用以限制本實(shí)用新型。?

如圖1和圖2所示，本實(shí)用新型實(shí)施例的厚片硅料的清洗裝置，包括依次設(shè)置的堿洗發(fā)生器1、階梯溢流槽2、超聲清洗槽3、酸洗槽4、階梯溢流槽2’、超聲清洗槽3’、甩干機(jī)5、烘箱6和分類放置區(qū)7：相鄰兩部件之間，例如堿洗發(fā)生器1和階梯溢流槽2、階梯溢流槽2和超聲清洗槽3之間，可設(shè)置有傳片裝置，傳片裝置例如為傳送帶。但本發(fā)明并不以此為限，也可在兩者之間通過(guò)人工進(jìn)行傳片。?

其中，如圖2所示，堿洗發(fā)生器1包括盛液槽10、攪拌器13、進(jìn)水口12和排液口11，盛液槽10用于盛裝堿溶液，堿溶液優(yōu)選的為30-40％的氫氧化鈉溶液；另外，盛液槽10內(nèi)還需進(jìn)行純水沖洗的工序，因此盛液槽10還用于盛裝對(duì)厚片硅料堿洗后進(jìn)行沖洗的純水。?

攪拌器13設(shè)置于盛液槽10的上方，通過(guò)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，并且其葉片能夠伸入到堿溶液內(nèi)進(jìn)行攪拌，攪拌器13可以是只有一個(gè)，也可以是多個(gè)。而用于向盛液槽10中加注純水的進(jìn)水口12設(shè)置在盛液槽10的頂部，用于堿洗后排出堿液的排液口11設(shè)置在盛液槽10的底部；排液口11也可以用來(lái)排出純水。?