[實用新型]一種磁控濺射靶材結構

有效

• 申請號: 201420003674.2
• 申請日: 2014-01-05
• 公開（公告）號: CN203715718U
• 公開（公告）日: 2014-07-16
• 發明（設計）人: 余松霖;林俊杰;覃秦
• 申請（專利權）人: 東莞匯海光電科技實業有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種靶材結構，尤其是一種磁控濺射靶材結構。

背景技術

現在鍍膜所用的靶材有很多種，常見的鋁靶材、鉬靶材、ITO靶材等，這些靶材一般都是一整塊的，然后把其焊接在一個銅背板上面。靶材在鍍膜過程中會消耗，消耗部分的面積不到靶材面積的1/3，如果有個地方擊穿及必需更換靶材。所以，目前的靶材結構造成靶材的極大浪費。

發明內容

針對現有技術的不足，本實用新型提供一種磁控濺射的靶材結構，靶材拼接結構能提高靶材的利用率，降低生產成本。

一種磁控濺射的靶材結構，包括背板（3）、靶材（1）、靶材（2），靶材（1）是橫截面為上凸形結構的方條形板材，靶材（2）是橫截面為下凸形結構的方條形板材；靶材（1）和靶材（2）通過焊接方式緊密拼接在背板（3）上，靶材（1）上凸形邊緣和靶材（2）下凸形邊緣是相互配合的。

靶材（1）和靶材（2）表面高度相同。

靶材（1）與背板（3）的連接焊點（4）分布在靶材的四個端點，靶材（2）與背板（3）的連接焊點（4）分布遠離靶材（1）的兩個端點。

本實用新型的有益效果為：新型的靶材拼接結構能有效提高靶材利用率，降低生產成本。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步說明：

如圖1所示，一種磁控濺射的靶材結構，包括背板（3）、靶材（1）、靶材（2），靶材（1）是橫截面為上凸形結構的方條形板材，靶材（2）是橫截面為下凸形結構的方條形板材；靶材（1）和靶材（2）通過焊接方式緊密拼接在背板（3）上，靶材（1）上凸形邊緣和靶材（2）下凸形邊緣是相互配合的。

靶材（1）和靶材（2）表面高度相同。

靶材（1）與背板（3）的連接焊點（4）分布在靶材的四個端點，靶材（2）與背板（3）的連接焊點（4）分布遠離靶材（1）的兩個端點。

當靶材（1）、靶材（2）消耗完后，可以通過靶材（1）和靶材（2）的位置互換，重新拼接成靶材結構即可再次使用。

上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理和最佳實施例，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。