[實用新型]一種磁控濺射靶材結構

有效

• 申請號: 201420003674.2
• 申請日: 2014-01-05
• 公開（公告）號: CN203715718U
• 公開（公告）日: 2014-07-16
• 發明（設計）人: 余松霖;林俊杰;覃秦
• 申請（專利權）人: 東莞匯海光電科技實業有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種磁控濺射靶材結構，其特征在于：包括背板（3）、靶材（1）、靶材（2），所述的靶材（1）是橫截面為上凸形結構的方條形板材，所述的靶材（2）是橫截面為下凸形結構的方條形板材；所述的靶材（1）和靶材（2）通過焊接方式緊密拼接在背板（3）上,?所述的靶材（1）上凸形邊緣和靶材（2）下凸形邊緣是相互配合的。

2.根據權利要求1所述磁控濺射靶材結構，其特征在于：所述的靶材（1）和靶材（2）表面高度相同。

3.根據權利要求1所述磁控濺射靶材結構，其特征在于：所述的靶材（1）與背板（3）的連接焊點（4）分布在靶材的四個端點，所述的靶材（2）與背板（3）的連接焊點（4）分布遠離靶材（1）的兩個端點。