[實用新型]一種真空濺射鍍膜靶材有效
| 申請號： | 201420001631.0 | 申請日： | 2014-01-02 |
| 公開（公告）號： | CN203683650U | 公開（公告）日： | 2014-07-02 |
| 發明（設計）人： | 陳春玲;黃威智;方家芳 | 申請（專利權）人： | 昆山全亞冠環保科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林;汪慶朋 |
| 地址： | 215300 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空 濺射 鍍膜 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空濺射鍍膜靶材，包括濺鍍面，其特征在于，所述濺鍍面包括第一水平面（2）和與第一水平面（2）依次連接的第一斜坡面（3）、增高濺鍍面（4）、第二斜坡面（5）及第二水平面（6）；
所述第一斜坡面（3）與第一水平面（2）組成第一斜坡角，所述第二斜坡面（5）與第二水平面（6）構成第二斜坡角。
2.根據權利要求1所述的真空濺射鍍膜靶材，其特征在于，
所述第一斜坡角的角度為120°～140°，所述第二斜坡角的角度為130°～150°。
3.根據權利要求1所述的真空濺射鍍膜靶材，其特征在于，
所述增高濺鍍面（4）距離第一水平面（2）或第二水平面（6）的垂直高度為5.0～12.0mm。
4.根據權利要求1所述的真空濺射鍍膜靶材，其特征在于，
所述第一斜坡面（3）、增高濺鍍面（4）和第二斜坡面（5）表面的粗糙度小于0.8μm。
5.根據權利要求1所述的真空濺射鍍膜靶材，其特征在于，靶材總厚度為32±5.0mm。
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