[實用新型]一種真空濺射鍍膜靶材

有效

• 申請號: 201420001631.0
• 申請日: 2014-01-02
• 公開（公告）號: CN203683650U
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發明（設計）人: 陳春玲;黃威智;方家芳
• 申請（專利權）人: 昆山全亞冠環保科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林;汪慶朋

技術領域

本實用新型涉及一種真空濺射鍍膜靶材，屬于靶材技術領域。

背景技術

真空濺射鍍膜靶材通過在真空磁控環境中，利用離子源產生的離子，在真空中加速聚集成高速離子流，轟擊靶材表面，使靶材表面的原子離開靶材并沉積在基材表面。

現有靶材的形態如圖1所示，即濺鍍面1為平面，對應的機臺為恒定電流控制，靶材預濺鍍1.5小時后導入生產。在濺鍍過程中，發現機臺的電壓隨著時間的進行而升高，導致膜層變厚、回濺物沉積較多，測試電壓升高，陷入惡性循環，且縮短了靶材的使用壽命，降低了靶材的使用率。

實用新型內容

針對現有技術存在的不足，本實用新型目的是提供一種電壓穩定、預濺鍍時間短、使用率高的真空濺射鍍膜靶材。

為了實現上述目的，本實用新型是通過如下的技術方案來實現：

本實用新型包括濺鍍面，其特征在于，所述濺鍍面包括第一水平面和與第一水平面依次連接的第一斜坡面、增高濺鍍面、第二斜坡面及第二水平面；第一斜坡面與第一水平面組成第一斜坡角，所述第二斜坡面與第二水平面構成第二斜坡角。

上述第一斜坡角的角度為120°～140°，所述第二斜坡角的角度為130°～150°。

上述增高濺鍍面距離第一水平面或第二水平面的垂直高度為5.0～12.0mm。

上述第一斜坡面、增高濺鍍面和第二斜坡面表面的粗糙度小于0.8μm。

靶材總厚度為32±5.0mm。

本實用新型通過改變靶材的濺鍍面形狀及厚度，來調整靶材與基材之間的磁場，使電壓平穩，從而使靶材的預濺鍍時間縮短，提高了靶材的使用率，薄膜質量提高。

附圖說明

圖1為現有技術的真空濺射鍍膜靶材側視圖；

圖2為本實用新型的真空濺射鍍膜靶材側視圖。

具體實施方式

為使本實用新型實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面結合具體實施方式，進一步闡述本實用新型。

參見圖2，本實用新型的真空濺射鍍膜靶材，包括濺鍍面，濺鍍面包括第一水平面2和與第一水平面2依次連接的第一斜坡面3、增高濺鍍面4、第二斜坡面5及第二水平面6。

用精度較高的銑床加工靶材斜坡面，第一斜坡面3與第一水平面2組成第一斜坡角，第二斜坡面5與第二水平面6構成第二斜坡角。

根據靶材的濺射軌道、機臺的特性及成本，設定第一斜坡角180°-∠A（40°～60°）及第二斜坡角180°-∠B（30°～50°）的大小。

第一斜坡角的角度為120°～140°，第二斜坡角的角度為130°～150°。相對位置根據相應機臺的濺射軌跡，通過3D掃描殘靶較精確的計算到靶材的濺射區域。

增高濺鍍面4距離第一水平面2或第二水平面6的垂直高度為5.0～12.0mm。靶材的斜坡高度根據對應電鍍設備磁場中的最優位置。

圖2中，X、Y值為靶材寬度的5%～50%。

斜坡面加工采用球形銑刀，研磨拋光斜坡及濺鍍面，確保第一斜坡面3、增高濺鍍面4和第二斜坡面5表面的粗糙度小于0.8μm。

靶材總厚度為32±5.0mm。

本實用新型能使真空環境下的磁場穩定，靶材預濺鍍0.5小時后，濺鍍電壓表面穩定，提升濺鍍質量。

本實用新型靶材導入濺鍍時，靶材表面的沉積物較少，靶材異常放電現象也未發生，電壓也已穩定，現有技術的組合靶材重量為203.0KG，本實用新型組后后重量為212.0KG，靶材的厚度增加6.0mm，重量僅增加9.0KG，但使用率從30%增加到45%。

以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優點。本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。