[發明專利]一種高效率易清洗的硅片清洗劑

在審

• 申請號: 201410846665.4
• 申請日: 2014-12-31
• 公開（公告）號: CN104531369A
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發明（設計）人: 聶金根
• 申請（專利權）人: 鎮江市港南電子有限公司
• 主分類號: C11D1/22
• 分類號: C11D1/22;C11D3/60;C11D3/382;C11D10/02
• 代理公司: 上海海頌知識產權代理事務所(普通合伙) 31258
• 代理人: 季萍

技術領域

本發明涉及一種清洗劑，特別涉及一種高效率易清洗的硅片清洗劑。

背景技術

隨著社會的發展，能源危機日益嚴重的今天，開發利用新能源已經越來越收到人們的關注，太陽能由于器無污染、可再生、無地域性等優點，越來越受到人們的青睞，太陽能產業也來越得以發展。而伴隨太陽能光伏產業的成熟，硅片的使用也越來越多。

清洗最為硅片的一個生產工序之一，清洗的好壞程度對硅片的使用性能有著很大的影響。清洗的主要目的是為了清洗掉切割過程中產生的沙粒，殘留的切削磨料、金屬離子及指紋等，使硅片表面達到無腐蝕、無氧化、無殘留等技術指標。傳統的硅片清洗，由于各個方法不一樣，采用的清洗劑也不一樣。現有技術中的清洗劑清洗效果較差，對于硅片表面的污漬難以做到更好的去除，降低了硅片的使用效果。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種能將硅片清洗干凈，使用簡單的高效率清洗劑。

為了解決上述技術問題，本發明一種高效率易清洗的硅片清洗劑，其組成成分包括（按重量份數計）:

二醇醚??????????????????20-50份

二醇酯???????????????????7-12份

油酸羥乙基咪唑啉?????????7-19份

十二烷基苯磺酸鈉?????????19-21份

磷酸氫鉀?????????????????15-27份

丙二醇????????????????????3-9份

氟化銨????????????????????7-10份

一號溶劑??????????????????7-13份

二號溶劑??????????????????3-6份

三號溶劑??????????????????20-33份。

上述一種高效率易清洗的硅片清洗劑，其特征在于，優選地，其組成成分包括（按重量份數計）:

二醇醚??????????????????35份

二醇酯???????????????????9份

油酸羥乙基咪唑啉?????????15份

十二烷基苯磺酸鈉?????????21份

磷酸氫鉀?????????????????21份

丙二醇????????????????????7份

氟化銨????????????????????9份

一號溶劑??????????????????13份

二號溶劑??????????????????5份

三號溶劑??????????????????25份。

上述一種高效率易清洗的硅片清洗劑，其中，所述一號溶劑為乙醇溶液。

上述一種高效率易清洗的硅片清洗劑，其中，所述乙醇溶液濃度為75%。

上述一種高效率易清洗的硅片清洗劑，其中，所述二號溶劑為柑橘油。

上述一種高效率易清洗的硅片清洗劑，其中，所述三號溶劑為去離子水。

本發明一種高效率易清洗的硅片清洗劑，可有效提高對硅片的清潔程度，配方簡單易于操作，對環境無不利影響，去污力強，高效且易清洗，提高了硅片的清洗速度與耐用性能，有利于提高硅片清洗的清潔率，使硅片清潔率率達到99.99％。

具體實施方式

下面結合具體實施例對本發明作進一步說明。

實施例一

一種高效率易清洗的硅片清洗劑，由二醇醚35份、二醇酯9份、油酸羥乙基咪唑啉15份、十二烷基苯磺酸鈉21份、磷酸氫鉀21份、丙二醇7份、氟化銨?9份、乙醇溶液13份、柑橘油5份、去離子水25份組成。以重量份數計，將上述原料以120r/min的速度下，攪拌15?分鐘。

性能指標：清洗硅片1000片，清洗潔凈程度達到99.99%

實施例二

一種高效率易清洗的硅片清洗劑，由二醇醚45份、二醇酯11份、油酸羥乙基咪唑啉11份、十二烷基苯磺酸鈉17份、磷酸氫鉀19份、丙二醇8份、氟化銨10份、乙醇溶液8份、柑橘油3份、去離子水29份組成。以重量份數計，將上述原料以120r/min的速度下，攪拌15?分鐘。性能指標：清洗硅片1000片，清洗潔凈程度達到99.13%

實施例三