[發明專利]帶導正機構的真空吸嘴

有效

• 申請號: 201410846550.5
• 申請日: 2014-12-31
• 公開（公告）號: CN104493476A
• 公開（公告）日: 2015-04-08
• 發明（設計）人: 熊世偉
• 申請（專利權）人: 東莞市貝迪自動化科技有限公司
• 主分類號: B23P19/06
• 分類號: B23P19/06;B25B23/08
• 代理公司: 東莞市華南專利商標事務所有限公司44215
• 代理人: 卞華欣

1.帶導正機構的真空吸嘴，其特征在于：包括真空吸嘴（1）和導正套（2），真空吸嘴（1）的內部開設有通孔（11），通孔（11）的下部設置有導正圈（12），導正圈（12）的底部形成有止位臺階（13），真空吸嘴（1）的側方開設有與通孔（11）連通的氣孔（14）；導正套（2）內開設有批頭穿孔（21），導正套（2）插入真空吸嘴（1）的通孔（11）內與止位臺階（13）抵接，導正套（2）與通孔（11）下部的導正圈（12）間隙配合，導正套（2）與通孔（11）上部緊密配合，導正套（2）的側方開設有過孔（22），過孔（22）與通孔（11）連通。

2.根據權利要求1所述的帶導正機構的真空吸嘴，其特征在于：所述導正套（2）的外壁設置有外螺紋（24），導正套（2）通過該外螺紋（24）與通孔（11）的上部螺紋連接。

3.根據權利要求1所述的帶導正機構的真空吸嘴，其特征在于：所述批頭穿孔（21）上部的內壁設置有導正軸承（25）。

4.根據權利要求1所述的帶導正機構的真空吸嘴，其特征在于：所述導正套（2）的上部設置有環形臺（23），該環形臺（23）與真空吸嘴（1）的頂端抵接。

5.根據權利要求1所述的帶導正機構的真空吸嘴，其特征在于：所述批頭穿孔（21）內設置有永磁體（26）。

6.根據權利要求1所述的帶導正機構的真空吸嘴，其特征在于：所述氣孔（14）的數量為兩個，該兩個氣孔（14）對稱設置。

7.根據權利要求1~6任意一項所述的帶導正機構的真空吸嘴，其特征在于：所述氣孔（14）連接有氣嘴（3）。

8.根據權利要求1所述的帶導正機構的真空吸嘴，其特征在于：所述止位臺階（13）為斜面止位臺階。