[發明專利]一種納米級六方氮化硼/二氧化硅復相陶瓷材料的制備方法

有效

• 申請號: 201410833418.0
• 申請日: 2014-12-27
• 公開（公告）號: CN104529412A
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發明（設計）人: 金漢;李永鋒;史忠旗;喬冠軍
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: C04B35/14
• 分類號: C04B35/14;C04B35/626
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 陸萬壽

1.一種納米級六方氮化硼/二氧化硅復相陶瓷材料的制備方法，其特征在于，將六方氮化硼粉體在400～800℃下進行氧化處理，將氧化處理后的六方氮化硼粉體與二氧化硅粉體混合，經球磨攪拌、造粒、壓片、排膠后，在氣氛爐中于1500～1600℃進行燒結，經冷卻制得納米級六方氮化硼/二氧化硅復相陶瓷材料。

2.根據權利要求1所述的一種納米級六方氮化硼/二氧化硅復相陶瓷材料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)按1:5～8的質量比，取六方氮化硼粉體和二氧化硅粉體，先將六方氮化硼粉體在400～800℃下氧化處理3～7d，然后將氧化處理后的六方氮化硼粉體與二氧化硅粉體混合，得混合粉體；

2)將混合粉體進行濕法球磨，球磨得到的漿料烘干、粉碎、過篩；

3)向過篩得到的粉料中加入粉料質量5％～10％的聚乙烯醇水溶液，研磨造粒，制得造粒料，將造粒料壓制成坯體；

4)將坯體在400～600℃下排膠12～24h；

5)將排膠處理后的坯體在氮氣氣氛下，以5～15℃/min的速率升溫至1500～1600℃，保溫1～3h后，冷卻，制得納米級六方氮化硼/二氧化硅復相陶瓷材料。

3.根據權利要求2所述的一種納米級六方氮化硼/二氧化硅復相陶瓷材料的制備方法，其特征在于，所述六方氮化硼粉體的粒徑為5～10μm。

4.根據權利要求2所述的一種納米級六方氮化硼/二氧化硅復相陶瓷材料的制備方法，其特征在于，步驟2)所述的濕法球磨是將混合粉體裝入球磨罐中，按照1:3的料球比向球磨罐中加入瑪瑙球，然后加入占球磨罐體積2/3的酒精，在滾筒球磨機上以120～150r/min的轉速下濕磨12～18h。

5.根據權利要求2所述的一種納米級六方氮化硼/二氧化硅復相陶瓷材料的制備方法，其特征在于，所述聚乙烯醇水溶液的質量分數為8～10％。

6.根據權利要求2所述的一種納米級六方氮化硼/二氧化硅復相陶瓷材料的制備方法，其特征在于，所述步驟3)是將造粒料在等靜壓機中以100MPa的壓力壓制成坯體。

7.根據權利要求2所述的一種納米級六方氮化硼/二氧化硅復相陶瓷材料的制備方法，其特征在于，步驟4)所述的排膠是將坯體置于馬弗爐中進行。

8.根據權利要求2所述的一種納米級六方氮化硼/二氧化硅復相陶瓷材料的制備方法，其特征在于，所述步驟5)是將排膠處理后的坯體置于石墨模具中進行升溫燒結。