[發(fā)明專利]掩模板及光配向方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410829680.8
• 申請(qǐng)日: 2014-12-26
• 公開（公告）號(hào): CN104570489B
• 公開（公告）日: 2018-07-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1337
• 分類號(hào): G02F1/1337;G03F1/00
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強(qiáng)

本發(fā)明提供了一種光配向方法，包括以下步驟，提供上層面板與下層面板；提供掩模板以遮擋所述上層面板與所述下層面板，并設(shè)置所述掩膜板的透光區(qū)域；利用掩模板以第一入射方向發(fā)出紫外線曝光所述上層面板的上層配向膜與下層面板的下層配向膜；調(diào)整所述掩膜板的透光區(qū)域；利用掩模板以第二入射方向發(fā)出紫外線曝光所述上層面板的上層配向膜與下層面板的下層配向膜。本發(fā)明還公開一種掩膜板。本發(fā)明的掩模板只需一塊掩模板進(jìn)行次曝光就可以完成整個(gè)液晶顯示裝置中配向膜的制程，可有效減少曝光次數(shù)、簡(jiǎn)化制造過程。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及液晶技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩模板及采用該掩膜板對(duì)液晶顯示裝置進(jìn)行配向的光配向方法。

背景技術(shù)

液晶顯示器制造過程中最為廣泛運(yùn)用的配向技術(shù)是磨刷配向(Rubbingalignment)法。磨刷配向法可以提供液晶分子較強(qiáng)的配向能力，但是在磨刷的過程中，由于利用絨布接觸式的摩擦，因此會(huì)產(chǎn)生靜電和顆粒(particle)的污染，而這些污染往往直接造成液晶元件的損壞。

現(xiàn)有一種光配向法，利用線性偏極的紫外光照射在具有感光劑的高分子聚合物配向膜上，使得高分子聚合物具有配向能力。其優(yōu)點(diǎn)為可避免玻璃基板表面的污染、可以進(jìn)行小面積的配向、透過光罩可作圖形的配向，利用入射光的角度與照射時(shí)間的長(zhǎng)短，可以控制液晶單元的參數(shù)，如預(yù)傾角、表面定向強(qiáng)度等。

但是通過光配向法在一個(gè)像素內(nèi)的多個(gè)區(qū)域形成多個(gè)同配向方向域，從而提高液晶顯示的側(cè)可視度時(shí)。在制造過程中，需要設(shè)置多個(gè)光罩，并相應(yīng)采用不同方向的入射光進(jìn)行多次照射配向，制造過程繁瑣，制造成本較高。

發(fā)明內(nèi)容

提供一種掩模板及采用該掩膜板對(duì)液晶顯示裝置進(jìn)行配向的光配向方法。

一種光配向方法，包括以下步驟，

提供上層面板與下層面板；

提供掩模板以遮擋所述上層面板與所述下層面板，并設(shè)置所述掩膜板的透光區(qū)域；

利用掩模板以第一入射方向發(fā)出紫外線曝光所述上層面板的上層配向膜與下層面板的下層配向膜；

調(diào)整所述掩膜板的透光區(qū)域；

利用掩模板以第二入射方向發(fā)出紫外線曝光所述上層面板的上層配向膜與下層面板的下層配向膜。

進(jìn)一步的，當(dāng)提供上層面板與下層面板時(shí)，進(jìn)一步包括以下步驟，

將所述下層面板的高灰階子像素分為相鄰且沿像素長(zhǎng)邊排布的第一高灰階子像素區(qū)域與第二高灰階子像素區(qū)域；將所述下層面板的低灰階子像素分為相鄰且沿像素長(zhǎng)邊排布的第一低灰階子像素區(qū)域與第二低灰階子像素區(qū)域；

將所述上層面板的高灰階子像素分為相鄰且沿像素短邊排布的第一高灰階子像素區(qū)域與第二高灰階子像素區(qū)域；將所述上層面板的低灰階子像素分為相鄰且沿像素短邊排布的第一低灰階子像素區(qū)域與第二低灰階子像素區(qū)域；

將所述上層面板與下層面板相互垂直設(shè)置。

進(jìn)一步的，當(dāng)提供掩模板以遮擋所述上層面板與所述下層面板，并設(shè)置所述掩膜板的透光區(qū)域時(shí)，進(jìn)一步包括以下步驟，

所述掩模板的第一透光區(qū)域開啟并對(duì)應(yīng)所述下層面板的第一高灰階子像素區(qū)域設(shè)置；所述掩模板的第一擋板遮擋所述第一開口的第二透光區(qū)域；

所述掩模板的第三透光區(qū)域開啟并對(duì)應(yīng)所述下層面板的第一低灰階子像素區(qū)域設(shè)置；所述掩模板的第二擋板遮擋所述第二開口的第四透光區(qū)域；

所述掩模板的第五透光區(qū)域開啟并對(duì)應(yīng)所述上層面板的第一高灰階子像素區(qū)域設(shè)置；所述掩模板的第三擋板遮擋所述第三開口的第六透光區(qū)域；

所述掩模板的第七透光區(qū)域開啟并對(duì)應(yīng)所述上層面板的第一低灰階子像素區(qū)域設(shè)置；所述掩模板的第四擋板遮擋所述第四開口的第八透光區(qū)域。