[發明專利]掩模板及光配向方法

有效

• 申請號: 201410829680.8
• 申請日: 2014-12-26
• 公開（公告）號: CN104570489B
• 公開（公告）日: 2018-07-03
• 發明（設計）人: 孫杰
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337;G03F1/00
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

1.一種光配向方法，其特征在于，包括以下步驟，

提供上層面板與下層面板，將所述下層面板的高灰階子像素分為相鄰且沿像素長邊排布的第一高灰階子像素區域與第二高灰階子像素區域；將所述下層面板的低灰階子像素分為相鄰且沿像素長邊排布的第一低灰階子像素區域與第二低灰階子像素區域；

將所述上層面板的高灰階子像素分為相鄰且沿像素短邊排布的第一高灰階子像素區域與第二高灰階子像素區域；將所述上層面板的低灰階子像素分為相鄰且沿像素短邊排布的第一低灰階子像素區域與第二低灰階子像素區域；

將所述上層面板與下層面板相互垂直設置；

提供掩模板以遮擋所述上層面板與所述下層面板，并設置所述掩膜板的透光區域，所述掩模板的第一透光區域開啟并對應所述下層面板的第一高灰階子像素區域設置；所述掩模板的第一擋板遮擋所述掩模板的第一開口的第二透光區域；

所述掩模板的第三透光區域開啟并對應所述下層面板的第一低灰階子像素區域設置；所述掩模板的第二擋板遮擋所述掩模板的第二開口的第四透光區域；

所述掩模板的第五透光區域開啟并對應所述上層面板的第一高灰階子像素區域設置；所述掩模板的第三擋板遮擋所述掩模板的第三開口的第六透光區域；

所述掩模板的第七透光區域開啟并對應所述上層面板的第一低灰階子像素區域設置；所述掩模板的第四擋板遮擋所述掩模板的第四開口的第八透光區域；

利用掩模板以第一入射方向發出紫外線同時曝光所述上層面板的上層配向膜與下層面板的下層配向膜；

調整所述掩膜板的透光區域；

利用掩模板以第二入射方向發出紫外線同時曝光所述上層面板的上層配向膜與下層面板的下層配向膜。

2.如權利要求1所述的光配向方法，其特征在于，當利用掩模板以第一入射方向發出紫外線曝光所述上層面板的上層配向膜與下層面板的下層配向膜時，紫外線以第一入射方向通過掩模板的第一透光區域、第三透光區域入射至所述下層面板；紫外線以第一入射方向通過掩模板的第五透光區域、第七透光區域入射至所述上層面板。

3.如權利要求2所述的光配向方法，其特征在于，當調整所述掩膜板的透光區域時，

進一步包括以下步驟：

所述掩模板的第二透光區域開啟并對應所述下層面板的第二高灰階子像素區域設置；所述掩模板的第一擋板遮擋所述掩模板的第一開口的第一透光區域；

所述掩模板的第四透光區域開啟并對應所述下層面板的第二低灰階子像素區域設置；所述掩模板的第二擋板遮擋所述掩模板的第二開口的第三透光區域；

所述掩模板的第六透光區域開啟并對應所述上層面板的第二高灰階子像素區域設置；所述掩模板的第三擋板遮擋所述掩模板的第三開口的第五透光區域；

所述掩模板的第八透光區域開啟并對應所述上層面板的第二低灰階子像素區域設置；所述掩模板的第四擋板遮擋所述掩模板的第四開口的第七透光區域。

4.如權利要求3所述的光配向方法，其特征在于，當利用掩模板以第二入射方向發出紫外線曝光所述上層面板的上層配向膜與下層面板的下層配向膜時，紫外線以第二入射方向通過掩模板的第二透光區域、第四透光區域入射至所述下層面板；紫外線以第二入射方向通過掩模板的第六透光區域、第八透光區域入射至所述上層面板。

5.一種掩膜板，通過所述掩模板實現如權利要求1-4任一項的所述光配向方法，其特征在于，包括遮光板體、形成于遮光板體的第一開口、第二開口、第三開口與第四開口，所述掩模板的第一開口包括相鄰的第一透光區域與第二透光區域，所述掩模板的第二開口包括相鄰的第三透光區域與第四透光區域，所述掩模板的第三開口包括相鄰的第五透光區域與第六透光區域，所述掩模板的第四開口包括相鄰的第七透光區域與第八透光區域，所述掩膜板還設有第一擋板、第二擋板、第三擋板、第四擋板，所述第一擋板用于遮擋所述第一透光區域或第二透光區域，所述第二擋板用于遮擋所述第三透光區域或第四透光區域，所述第三擋板用于遮擋所述第五透光區域或第六透光區域，所述第四擋板用于遮擋所述第七透光區域或第八透光區域。