[發(fā)明專利]一種位置標(biāo)定的方法及裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410822825.1
• 申請(qǐng)日: 2014-12-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105783710B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-09-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李愷;霍杰;劉子陽(yáng);李向東;葉樂(lè)志;唐亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京中電科電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): G01B11/00
• 分類號(hào): G01B11/00;G01B11/14;G01B11/26
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;黃燦

本發(fā)明提供一種位置標(biāo)定的方法及裝置，應(yīng)用于裝片設(shè)備中，該方法包括：獲取第一光學(xué)系統(tǒng)的中心與預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心的第一坐標(biāo)差，其中，所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板按照預(yù)設(shè)工藝軌跡運(yùn)動(dòng)至所述第一光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)中；獲取第二光學(xué)系統(tǒng)的中心與所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心的第二坐標(biāo)差，其中，所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板按照所述預(yù)設(shè)工藝軌跡從所述第一光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)運(yùn)動(dòng)至所述第二光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)中；根據(jù)所述第一坐標(biāo)差和所述第二坐標(biāo)差，確定所述第一光學(xué)系統(tǒng)與所述第二光學(xué)系統(tǒng)之間的距離及夾角，使得所述裝片設(shè)備能夠根據(jù)所述距離及夾角實(shí)現(xiàn)芯片位置的標(biāo)定。本發(fā)明實(shí)施例標(biāo)定的光學(xué)系統(tǒng)間的距離和夾角為下一步裝片工藝的精度提供了保證，實(shí)現(xiàn)了高精度的裝片。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及裝片技術(shù)及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種位置標(biāo)定的方法及裝置。

背景技術(shù)

隨著全球電子信息技術(shù)的迅猛發(fā)展，集成電路芯片不斷向高密度、高性能和輕薄短小的方向發(fā)展，為滿足IC封裝要求，芯片上的凸點(diǎn)數(shù)量將會(huì)越來(lái)越多。隨著凸點(diǎn)數(shù)量的增多，對(duì)現(xiàn)有裝片設(shè)備提出了挑戰(zhàn)，其中一個(gè)主要的難題是高密度，小間距凸點(diǎn)的芯片如何高精度裝片。目前裝片類設(shè)備中一般是拾取芯片后直接完成裝片，但這種方式存在一個(gè)主要問(wèn)題，拾取芯片后不經(jīng)過(guò)對(duì)準(zhǔn)直接裝片，所以無(wú)法消除拾取時(shí)可能存在的微小偏差，使得裝片的精度很難提高。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種位置標(biāo)定的方法及裝置，在設(shè)備工藝生產(chǎn)之前標(biāo)定芯片對(duì)準(zhǔn)位置和基板貼裝位置，并校正得到的偏差，滿足高精度裝片的要求。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明實(shí)施例提供一種位置標(biāo)定的方法，應(yīng)用于裝片設(shè)備中，包括：

獲取第一光學(xué)系統(tǒng)的中心與預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心的第一坐標(biāo)差，其中，所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板按照預(yù)設(shè)工藝軌跡運(yùn)動(dòng)至所述第一光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)中；

獲取第二光學(xué)系統(tǒng)的中心與所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心的第二坐標(biāo)差，其中，所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板按照所述預(yù)設(shè)工藝軌跡從所述第一光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)運(yùn)動(dòng)至所述第二光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)中；

根據(jù)所述第一坐標(biāo)差和所述第二坐標(biāo)差，確定所述第一光學(xué)系統(tǒng)與所述第二光學(xué)系統(tǒng)之間的距離及夾角，使得所述裝片設(shè)備能夠根據(jù)所述距離及夾角實(shí)現(xiàn)芯片位置的標(biāo)定。

其中，所述獲取第一光學(xué)系統(tǒng)的中心與預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心的第一坐標(biāo)差，具體包括：

獲取所述第一光學(xué)系統(tǒng)的中心在預(yù)設(shè)三維坐標(biāo)系中的第一坐標(biāo)；

獲取所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心在所述預(yù)設(shè)三維坐標(biāo)系中的第二坐標(biāo)，其中，所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心由所述第一光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行標(biāo)定；

根據(jù)所述第一坐標(biāo)和所述第二坐標(biāo)，確定所述第一坐標(biāo)差。

其中，所述獲取第二光學(xué)系統(tǒng)的中心與所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心的第二坐標(biāo)差，具體包括：

獲取所述第二光學(xué)系統(tǒng)的中心在所述預(yù)設(shè)三維坐標(biāo)系中的第三坐標(biāo)；

獲取所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心在所述預(yù)設(shè)三維坐標(biāo)系中的第四坐標(biāo)，其中，所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心由所述第二光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行標(biāo)定；

根據(jù)所述第三坐標(biāo)和所述第四坐標(biāo)，確定所述第二坐標(biāo)差。

其中，所述第一光學(xué)系統(tǒng)包括工業(yè)相機(jī)，一端與所述工業(yè)相機(jī)連接的變倍或定倍鏡頭以及與所述鏡頭的另一端連接的轉(zhuǎn)折棱鏡；

所述第二光學(xué)系統(tǒng)包括工業(yè)相機(jī)以及與所述工業(yè)相機(jī)連接的變倍或定倍鏡頭；其中，

當(dāng)所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板在所述第一光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)中時(shí)，所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心由所述第一光學(xué)系統(tǒng)通過(guò)調(diào)節(jié)所述轉(zhuǎn)折棱鏡的位置來(lái)進(jìn)行標(biāo)定；

當(dāng)所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板在所述第二光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)中時(shí)，所述預(yù)設(shè)標(biāo)定板的中心由所述第二光學(xué)系統(tǒng)通過(guò)調(diào)節(jié)所述鏡頭及工業(yè)相機(jī)的位置來(lái)進(jìn)行標(biāo)定。