[發明專利]陰極電解產物的清洗方法在審
| 申請號： | 201410811294.6 | 申請日： | 2014-12-23 |
| 公開（公告）號： | CN105780058A | 公開（公告）日： | 2016-07-20 |
| 發明（設計）人： | 吳景暉;姚力軍;代大偉 | 申請（專利權）人： | 寧波創潤新材料有限公司 |
| 主分類號： | C25C3/28 | 分類號： | C25C3/28;C25C7/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 吳敏;駱蘇華 |
| 地址： | 浙江省寧波市*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 陰極 電解 產物 清洗 方法 | ||
1.一種陰極電解產物的清洗方法，其特征在于，包括：
采用酸液對所述陰極電解產物進行梯度清洗；
對所述梯度清洗的所述陰極電解產物進行水洗。
2.如權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，所述酸液為稀硫酸溶液或稀 硫酸與稀鹽酸的混合溶液。
3.如權利要求2所述的清洗方法，其特征在于，所述梯度清洗包括：
采用第一摩爾濃度的所述酸液對所述陰極電解產物進行第一清洗；
采用第二摩爾濃度的所述酸液對所述陰極電解產物進行第二清洗，所述第 二摩爾濃度小于第一摩爾濃度；
采用第三摩爾濃度的所述酸液對所述陰極電解產物進行第三清洗，所述第 三摩爾濃度小于第二摩爾濃度。
4.如權利要求3所述的清洗方法，其特征在于，所述第一摩爾濃度為大于等 于0.006mol/ml且小于等于0.008mol/ml。
5.如權利要求3所述的清洗方法，其特征在于，所述第二摩爾濃度為大于等 于0.004mol/ml且小于等于0.006mol/ml。
6.如權利要求3所述的清洗方法，其特征在于，所述第三摩爾濃度為大于等 于0.002mol/ml且小于等于0.004mol/ml。
7.如權利要求3所述的清洗方法，其特征在于，所述陰極電解產物附著在陰 極棒上，所述第一清洗在盛有第一摩爾濃度的所述酸液的第一酸槽中進行， 所述第一清洗包括在第一摩爾濃度的所述酸液中移動所述陰極棒。
8.如權利要求7所述的清洗方法，其特征在于，所述移動方向為垂直于第一 摩爾濃度的所述酸液液面方向。
9.如權利要求2所述的清洗方法，其特征在于，所述酸液為所述硫酸溶液與 所述鹽酸溶液的混合液時，所述硫酸與所述鹽酸的體積相等，所述硫酸溶 液與所述鹽酸溶液的摩爾濃度相等。
10.如權利要求1所述的清洗方法，其特征在于，采用去離子水進行所述水洗。
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