[發(fā)明專(zhuān)利]用于校正激光束的設(shè)備以及校正激光束的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410809674.6
• 申請(qǐng)日: 2014-12-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104722917A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-06-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 咸常根;徐永德;韓承范;梁相熙
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: AP系統(tǒng)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B23K26/04
• 分類(lèi)號(hào): B23K26/04
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 陶敏;臧建明

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于校正激光束的設(shè)備以及通過(guò)使用所述設(shè)備來(lái)校正激光束的方法，且更明確地說(shuō)，涉及可容易地校正激光線束輪廓的用于校正激光束的設(shè)備以及通過(guò)使用所述設(shè)備來(lái)校正激光束的方法。

背景技術(shù)

一般來(lái)說(shuō)，玻璃基板被用作有機(jī)發(fā)光二極管(organic?light?emitting?diode，OLED)顯示器或液晶顯示器(1iquid?crystal?display，LED)的基板。在這種情況下，玻璃基板具有激光退火工藝且接著結(jié)晶或者增強(qiáng)結(jié)晶度。為了在此類(lèi)激光退火工藝中提供均勻性，需要將激光線束均勻地輻射到基板的前表面。(圖1是用于解釋一般激光熱處理設(shè)備的示意圖。)

參看圖1，石英窗20安裝在反應(yīng)室10的頂部，且激光系統(tǒng)40安裝在石英窗20上方。從激光系統(tǒng)40發(fā)射的激光41穿過(guò)石英窗20且輻射到反應(yīng)室中的芯片W。

圖2a和圖2b是用于解釋圖1中的激光41的圖。圖2a表示當(dāng)從頂部向下看芯片時(shí)的狀態(tài)，且圖2b是芯片的透視圖。如圖2a和圖2b所示，激光41以線形輻射且以窗簾形式垂直于芯片或與芯片成某一角度輻射。芯片W垂直于激光41的表面或以某個(gè)角度水平地移動(dòng)，且激光41輻射到芯片W的前表面。

三個(gè)主要因素可影響激光退火。這三個(gè)因素包含線束輪廓、激光能量和脈沖形狀。在這種情況下，線束輪廓表示輻射激光的線長(zhǎng)度和均勻性。另外，激光能量表示激光的能量強(qiáng)度。此外，脈沖形狀表示激光的脈沖形狀。這三個(gè)因素是可隨激光照射數(shù)目增加而變化的變量。

這些因素當(dāng)中的線束輪廓由于取決于激光束照射數(shù)目的原始束的變形而變形，因此在以所要形狀將線束輻射到芯片上的所要位置的過(guò)程中存在誤差。因此，當(dāng)線束輪廓具有超過(guò)所要參考范圍的值時(shí)，在退火工藝中缺陷增加。另外，大規(guī)模生產(chǎn)的操作時(shí)間減少，且因此存在限制在于，生產(chǎn)效率減小。在這種情況下，已存在用于監(jiān)視激光原始束且在原始束變形時(shí)自動(dòng)校正變形原始束的技術(shù)。然而，不存在用于監(jiān)視穿過(guò)光學(xué)系統(tǒng)的線束輪廓且在線束輪廓已變形時(shí)自動(dòng)校正變形線束輪廓的技術(shù)。

因此，為了校正穿過(guò)光學(xué)系統(tǒng)的線束輪廓，已重新調(diào)諧并對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)以校正線束輪廓，以使得激光束以所要形狀輻射到芯片。

然而，因?yàn)檎{(diào)整光學(xué)系統(tǒng)以校正線束輪廓的方法需要檢查穿過(guò)光學(xué)系統(tǒng)的激光束的狀態(tài)，所以需要通過(guò)分離光學(xué)系統(tǒng)來(lái)校正線束輪廓的過(guò)程。

因此，因?yàn)樾枰^長(zhǎng)時(shí)間來(lái)校正線束輪廓，所以造成如上所述的限制(大規(guī)模生產(chǎn)的操作時(shí)間減少和生產(chǎn)效率減小)。

專(zhuān)利文獻(xiàn)：

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：JP2004-0022444A1

專(zhuān)利文獻(xiàn)2：JP2006-0248975A1

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供用于校正激光束的設(shè)備以及通過(guò)使用所述設(shè)備來(lái)校正激光束的方法，其可實(shí)時(shí)地感測(cè)輻射激光線束輪廓的變化且當(dāng)在線束輪廓上產(chǎn)生超過(guò)誤差范圍的變形時(shí)自動(dòng)校正線束輪廓。

本發(fā)明提供用于校正激光束的設(shè)備以及通過(guò)使用所述設(shè)備來(lái)校正激光束的方法，其可校正穿過(guò)光學(xué)系統(tǒng)的激光線束輪廓且縮短調(diào)諧光學(xué)系統(tǒng)以實(shí)現(xiàn)激光線束的校正通常所消耗的時(shí)間。

本發(fā)明提供用于校正激光束的設(shè)備以及通過(guò)使用所述設(shè)備來(lái)校正激光束的方法，其可減少或防止在激光線束到達(dá)目標(biāo)的輻射位置上發(fā)生誤差，減少待處理的目標(biāo)的缺陷，且增大處理效率。

根據(jù)一個(gè)示范性實(shí)施例，一種用于校正激光束的設(shè)備包含：激光光源，發(fā)射激光；輸出端反射鏡，將從激光光源發(fā)射的激光束反射到基板，其中輸出端反射鏡透射未被反射的剩余激光束；校正系統(tǒng)，包含至少一個(gè)校正透鏡且基于激光束的輸出方向布置在輸出端反射鏡之前，其中校正系統(tǒng)收集關(guān)于穿過(guò)輸出端反射鏡的剩余激光束的線束輪廓數(shù)據(jù)；以及控制器，連接到校正系統(tǒng)且取決于從校正系統(tǒng)收集的線束輪廓數(shù)據(jù)的變形而控制校正透鏡的移動(dòng)。

校正系統(tǒng)可包含：感測(cè)單元，基于激光束的輸出方向布置在輸出端反射鏡之后，其中感測(cè)單元收集關(guān)于剩余激光束的線束輪廓數(shù)據(jù)且計(jì)算激光線束的變化；以及致動(dòng)器，連接到校正透鏡以增大或減小激光線束的寬度、斜率和陡度中的至少一個(gè)，其中致動(dòng)器在X軸方向、Z軸方向和θ軸方向中的至少一個(gè)上致動(dòng)校正透鏡。

校正系統(tǒng)可包含布置在校正透鏡外部的支撐框架，且致動(dòng)器可連接到支撐框架以在X軸方向、Z軸方向和θ軸方向中的至少一個(gè)上移動(dòng)支撐框架。

校正透鏡可包含在激光束的輸出方向上并排布置的第一和第二校正透鏡，且第一和第二校正透鏡可相互連結(jié)以調(diào)整激光線束的寬度。