[發明專利]蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201410802486.0
• 申請日: 2014-12-19
• 公開（公告）號: CN104532192B
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發明（設計）人: 李金川;吳聰原
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/14
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280
• 代理人: 何青瓦

技術領域

本發明涉及半導體制程領域，尤其是涉及一種蒸鍍裝置。

背景技術

有機電致發光器件(Organic Light-Emitting Diode，OLED)因具備主動發光、響應速度快、可彎曲、超輕薄等優點，被稱之為第三代夢幻現實技術。目前，全球各大廠商紛紛持續投入資金與技術進行研發，并已達成量產，市場需求高漲。

隨著白光OLED(White Organic Light-Emitting Diode，WOLED)在大尺寸電視的開始逐漸應用，越來越多公司開始進行WOLED開發工作，目前大家都采用R/G/B三原色疊層制作的方式制作WOLED元件，然后利用彩色濾光片來分別得到R/G/B不同光色來實現彩色發光，由于運用疊層結構，使得在器件中需要使用CGL(charge generate layer電子產生層)層來分別為藍光層提供電子和紅綠光提供空穴，在CGL層中普遍做法是需要使用Li這種物質，而Li較活潑，具有一定危險性，大家紛紛尋找能產生Li的其他材料來代替使用純Li,較常用的為使用Li₃N，這種物質所需溫度只需要500°左右，便于蒸鍍，但由于Li₃N蒸鍍后會產生大量氣體N₂，且由于Li₃N具有包覆H₂的能力，加熱后會大量釋放H₂。傳統的蒸鍍腔體是用冷凝泵來維持腔內的高真空，對于分子量較小的H₂較難清除，需要很長時間，這使得腔內真空度變差，會對WOLED器件的壽命等造成一定的影響。

發明內容

本發明主要解決的技術問題是提供一種蒸鍍裝置，能夠提高腔內真空度，減少對器件壽命的影響。

為解決上述技術問題，本發明采用的一個技術方案是：提供一種蒸鍍裝置，包括：真空室，提供真空環境；蒸發源，位于真空室中，提供用于蒸鍍的Li₃N，并對Li₃N進行加熱分解，產生Li；對位系統，與蒸發源相對設置，對需鍍膜的基片進行定位，使Li沉積在基片上；冷凝泵，與真空室連通，用于對真空室進行抽真空處理；分子泵，與真空室連通，用于維持真空室的低真空度。

其中，分子泵與冷凝泵相對設置。

其中，分子泵快速抽取分子量小的氣體，使真空度維持在E-5以下。

其中，分子泵轉速為27500rpm以上。

其中，分子泵轉速采用高轉速分子泵，轉速超過35000rpm。

其中，分子泵轉速為42300rpm。

其中，分子泵轉速為51000rpm。

其中，蒸鍍裝置用于在有機電致發光器件中蒸鍍鋰。

其中，分子泵快速抽取Li₃N加熱升溫時產生的H₂。

本發明的有益效果是：區別于現有技術的情況，本發明通過真空室提供真空環境；蒸發源位于真空室中，提供用于蒸鍍的Li₃N，并對Li₃N進行加熱分解，產生Li；對位系統與蒸發源相對設置，對需鍍膜的基片進行定位，使Li沉積在基片上；冷凝泵與真空室連通，對真空室進行抽真空處理；分子泵與真空室連通，維持真空室的低真空度，能夠提高腔內真空度，減少對器件壽命的影響。

附圖說明

圖1是本發明實施例的蒸鍍裝置。

具體實施方式

請參閱圖1，圖1是本發明實施例的蒸鍍裝置。如圖1所示，蒸鍍裝置包括：真空室、蒸發源、對位系統、冷凝泵以及分子泵。真空室提供真空環境。蒸發源位于真空室中，提供用于蒸鍍的Li₃N，并對Li₃N進行加熱分解，產生Li。對位系統與蒸發源相對設置，對需鍍膜的基片進行定位，使Li沉積在基片上。冷凝泵與真空室連通，用于對真空室進行抽真空處理。分子泵與真空室連通，用于維持真空室的低真空度。

在本發明實施例中，分子泵與冷凝泵相對設置，相互獨立。通常情況下蒸鍍裝置僅開啟冷凝泵進行抽真空，使得蒸鍍裝置的真空室內真空度維持在E-5帕以下。當在蒸鍍WOLED時，蒸發源對提供的Li₃N進行加熱升溫，導致真空室內真空度上升，如為E-4帕時，開啟分子泵，抽氣能力增強，迅速抽出分子量較小的氣體，如快速抽取Li₃N加熱升溫時產生的H₂，使真空室內真空度維持在E-5帕以下，即使得真空室內真空度一直維持在較高的真空狀態，確保器件壽命不會因為制作時真空環境不好而造成壽命減少的問題出現。