[發明專利]蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201410802486.0
• 申請日: 2014-12-19
• 公開（公告）號: CN104532192B
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發明（設計）人: 李金川;吳聰原
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/14
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280
• 代理人: 何青瓦

1.一種蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置包括：

真空室，提供真空環境；

蒸發源，位于所述真空室中，提供用于蒸鍍的Li₃N，并對所述Li₃N進行加熱分解，產生Li；

對位系統，與所述蒸發源相對設置，對需鍍膜的基片進行定位，使所述Li沉積在所述基片上；

冷凝泵，與所述真空室連通，對所述真空室進行抽真空處理；

分子泵，與所述真空室連通，維持所述真空室的低真空度；

其中，所述分子泵與冷凝泵相對設置，相互獨立，通常情況下所述蒸鍍裝置僅開啟時，冷凝泵進行抽真空，蒸鍍時，所述分子泵快速抽取分子量小的氣體，使真空度維持在E-5以下，當在蒸鍍WOLED時，所述蒸發源對提供的Li₃N進行加熱升溫，導致真空室內真空度上升，開啟所述分子泵，使真空室內真空度維持在E-5帕以下。

2.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述分子泵轉速為27500rpm以上。

3.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述分子泵轉速采用高轉速分子泵，轉速超過35000rpm。

4.根據權利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述分子泵轉速為42300rpm。

5.根據權利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述分子泵轉速為51000rpm。

6.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置用于在有機電致發光器件中蒸鍍鋰。

7.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述分子泵快速抽取Li₃N加熱升溫時產生的H₂。