[發明專利]一種用于2.5～25μm波長范圍內的減反射材料的制備方法

有效

• 申請號: 201410799612.1
• 申請日: 2014-12-19
• 公開（公告）號: CN104597529A
• 公開（公告）日: 2015-05-06
• 發明（設計）人: 張貴英;劉存兄;倪邦發;王平生;肖才錦;金象春;姚永剛;王興華;華龍
• 申請（專利權）人: 中國原子能科學研究院
• 主分類號: G02B1/111
• 分類號: G02B1/111
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

1.一種用于2.5～25μm波長范圍內的減反射材料的制備方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

(1)輻照

利用加速器產生的重粒子在真空室中雙面輻照聚酯膜，使輻照后聚酯膜兩面的孔密度均達到5×10⁶～10×10⁶/cm²；所述重粒子為質量數大于32的粒子，粒子能量為120～500MeV，束流密度為1×10⁶～1×10⁷/cm²，所述聚酯膜的厚度為20～50μm；

(2)光致氧化

輻照過后的樣品在清潔的大氣環境中放置1～3個月，使聚酯膜中的潛徑跡發生光致氧化過程；

(3)蝕刻

(ⅰ)將步驟(2)得到的聚酯膜置入裝有分析純酒精的干凈表面皿中，浸泡5～15分鐘，取出并放在干凈的濾紙上晾干；

(ⅱ)將步驟(ⅰ)得到的聚酯膜置入蝕刻槽內進行預蝕刻，聚酯膜兩面都浸入蝕刻液中；

(ⅲ)用紫外燈輻照以敏化步驟(ⅱ)得到的聚酯膜，敏化后重新放入蝕刻液中在超聲波作用下間歇蝕刻，蝕刻完成后清洗晾干即得到所需減反射材料；

步驟(ⅱ)～步驟(ⅲ)所述蝕刻液為氫氧化鈉溶液。

2.根據權利要求1所述的一種用于2.5～25μm波長范圍內的減反射材料的制備方法，其特征在于，所述聚酯膜的厚度為20～35μm。

3.根據權利要求1所述的一種用于2.5～25μm波長范圍內的減反射材料的制備方法，其特征在于，所述蝕刻槽置于超聲波發生器內，所述超聲發生器里裝有去離子水或自來水，超聲發生器的設定溫度為50～70℃，超聲波頻率為27.5kHz，功率為1kw。

4.根據權利要求1所述的一種用于2.5～25μm波長范圍內的減反射材料的制備方法，其特征在于，所述氫氧化鈉溶液的濃度為2～6mol/L。

5.根據權利要求1所述的一種用于2.5～25μm波長范圍內的減反射材料的制備方法，其特征在于，所述步驟(3)中步驟(ⅱ)所述預蝕刻時間為2～4min。

6.根據權利要求1所述的一種用于2.5～25μm波長范圍內的減反射材料的制備方法，其特征在于，所述步驟(3)中步驟(ⅲ)所述間歇蝕刻是每隔2-5min開啟超聲波，作用1-3min后關閉，間歇蝕刻的次數為3～10次。

7.根據權利要求1所述的一種用于2.5～25μm波長范圍內的減反射材料的制備方法，其特征在于，所述步驟(3)中步驟(ⅲ)所述紫外燈發出紫外線的波長為360nm。