[發明專利]用于顯示器的彩膜基板的制造方法

有效

• 申請號: 201410798615.3
• 申請日: 2014-12-19
• 公開（公告）號: CN104503128B
• 公開（公告）日: 2018-01-09
• 發明（設計）人: 趙鋒
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1333;G03F1/32
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)44280
• 代理人: 何青瓦

技術領域

本發明涉及液晶顯示技術領域，特別是涉及一種用于顯示器的彩膜基板的制造方法。

背景技術

TFT-LCD液晶面板包括陣列基板、彩膜基板及夾在陣列基板和彩膜基板中間的液晶層，其是利用電路產生電場驅動液晶分子，藉由液晶物理特性產生不同的光學效應，再對應彩膜基板上RGB三原色的變化，實現全彩顯示影像。

彩膜基板是TFT-LCD面板彩色化的必要材料，通常包括像素濾光膜和黑色矩陣層，其中像素濾光膜包括在透明玻璃基板上以預定結構排列的紅、綠、藍三色像素濾光膜，由于傳統的RGB像素光罩邊緣無特殊的圖案處理，為全透光區，因此經過R→G→B黃光制程后，RGB三色像素濾光膜的不同色阻之間存在重疊區域，這些重疊區域之間將引起嚴重的色阻堆疊牛角段差，嚴重的色阻堆疊牛角段差會使彩膜基板側靠近液晶側的地形起伏大，影響周圍的液晶倒向，使液晶效率下降，因此需要在這些RGB三色像素濾光膜層鍍上加強表面平坦的OC(over-coat)平坦層，增加了材料成本，而且使制程周期延長，生產效率降低。

發明內容

有鑒于此，本發明提供一種用于顯示器的彩膜基板的制造方法，提高液晶效率，實現無需額外增加OC平坦層制造彩膜基板，減少生產工藝，提高生效效率。

為解決上述問題，本發明提供一種用于顯示器的彩膜基板的制造方法，包括：提供一基板本體；在基板本體上涂覆色阻層，色阻層包括紅色色阻層、綠色色阻層及藍色色阻層，其中任意相鄰的色阻層部分重疊，形成重疊區域；利用光罩對色阻層進行曝光，其中光罩包括遮光區域以及由遮光區域圍設而成的透光區域，遮光區域的靠近透光區域的邊緣設置有間隔排列的遮光圖案，進而形成半透光的灰階光罩區域，并使灰階光罩區域對應重疊區域；對曝光后的色阻層進行顯影，以獲得色阻圖案，其中重疊區域形成半曝光，以使色阻圖案在與灰階光罩區域的對應區域的厚度在向其邊緣的方向上逐漸變薄。

其中，灰階光罩區域設置于遮光區域的相對兩側，以使得色阻圖案的相對兩側的與灰階光罩區域的對應區域的厚度在向其邊緣的方向上逐漸變薄。

其中，灰階光罩區域設置于遮光區域的四周，以使得色阻圖案四周的與灰階光罩區域的對應區域的厚度在向其邊緣的方向上逐漸變薄。

其中，遮光圖案為矩形、三角、梯形或半圓形。

通過上述方案，本發明的有益效果是：區別于現有技術，本發明的用于顯示器的彩膜基板的制造方法，彩膜基板包括基板本體和設置于基板本體上的多個色阻圖案，相鄰的色阻圖案部分重疊，通過使在重疊區域，位于下方的色阻圖案的厚度在向其邊緣的方向上逐漸變薄，使相鄰的色阻圖案的重疊區域的牛角段差減少，不需要在色阻圖案層上鋪設額外的OC平坦層，彩膜基板的表面也保持平整；并且，彩膜基板的光罩包括遮光區域及由遮光區域圍設而成的透光區域，遮光區域的靠近透光區域的邊緣設置有間隔排列的遮光圖案，形成半透光的灰階光罩區域，利用該光罩對基板上的色阻層進行曝光，并對曝光后的色阻層進行顯影，獲得與灰階光罩區域的對應區域的厚度在向其邊緣的方向上逐漸變薄的色阻圖案，省去了OC平坦層的制備工序，以一次工藝制程完成彩膜基板的圖案化處理，獲得表面平整的彩膜基板，提高液晶效率，降低了液晶顯示面板的生產成本，提高生產效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施方式中的技術方案，下面將對實施方式描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施方式，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。其中：

圖1是本發明用于顯示器的彩膜基板的結構示意圖；

圖2是本發明中彩膜基板的制作工藝示意圖；

圖3是本發明中彩膜基板的制造方法流程示意圖；

圖4是本發明彩膜基板的光罩的第一實施方式的結構示意圖；

圖5是本發明彩膜基板的光罩的第二實施方式的結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發明實施方式中的附圖，對本發明實施方式中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施方式僅僅是本發明一部分實施方式，而不是全部實施方式。基于本發明中的實施方式，本領域普通技術人員在沒有做出創造性的勞動前提下所獲得的所有其他實施方式，都屬于本發明保護的范圍。