[發明專利]一種厚層光刻膠涂覆裝置

在審

• 申請號: 201410798319.3
• 申請日: 2014-12-19
• 公開（公告）號: CN104503209A
• 公開（公告）日: 2015-04-08
• 發明（設計）人: 李文昊;楊碩;巴音賀希格;齊向東;趙旭龍;姜巖秀;焦慶斌
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 長春菁華專利商標代理事務所22210
• 代理人: 劉慧宇

技術領域

本發明涉及一種厚層光刻膠涂覆裝置，屬于光刻技術領域。

背景技術

傳統的微電子加工過程中所使用光刻膠的厚度通常在2微米以內，而厚層光刻膠光刻是一種制作深浮雕結構的技術，通常制作MEMS和連續微光學結構所用的光刻膠厚度為2微米到上百微米，有的甚至達到1毫米左右。

與本發明最為接近的已有技術是中國專利號為CN1963671B，發明名稱為“光刻膠涂覆設備及光刻膠涂覆方法”，該發明公開了一種TFT?LCD光刻工藝中的光刻膠涂覆設備，包括：平臺、光刻膠供給機構、噴嘴和噴嘴移動機構，其中噴嘴由光刻膠噴嘴和壓縮空氣噴嘴組成。且光刻膠噴嘴為多個，設置在噴嘴的中間位置或設置在噴嘴的兩側，或每個光刻膠噴嘴的周圍包圍多個壓縮空氣噴嘴。該發明同時公開了利用本發明的光刻膠涂敷設備涂敷光刻膠的方法。

該裝置采用的是噴涂光刻膠的方法對TFT?LCD進行涂覆，要求使用粘稠度比較稀的光刻膠，專利原文中提到所涂覆的光刻膠平均厚度為2.2微米，此裝置不適用于粘稠度比較稠的光刻膠涂覆，不能進行上百微米的厚膠涂覆。所以在進行厚膠涂覆時，需要提供一種實用的光刻膠涂覆裝置。

發明內容

為了克服上述已有技術存在的缺陷，本發明提出一種簡便可行的適用于微電子加工行業的一種厚層光刻膠涂覆裝置。

解決技術問題的技術方案為：

一種厚層光刻膠涂覆裝置，在承載平臺上安裝有第一調節螺絲組用于對承載平臺調平，使用第一水平檢測儀檢測承載平臺的水平度，在承載平臺上安裝有直線導軌副，直線導軌副的兩條導軌成平行放置，每條直線導軌副上各安裝一個導軌滑套，兩個導軌滑套通過兩套高低調節組件與光刻膠涂覆移動機構相連接，在光刻膠涂覆移動機構整體長度二分之一處垂直安裝第一推拉桿，第一推拉桿的另一側通過萬向軸承的一側相連接，第一推拉桿與第二推拉桿在萬向軸承兩側成一條直線，第二推拉桿的另一側與直線電機動子相連接，直線電機動子與直線電機定子共同組成直線電機，直線電機定子通過螺絲固定在承載平臺上；光學基底承載臺安裝在直線導軌副中間，光學基底放置在光學基底承載臺上，在光學基底承載臺上安裝有第二調節螺絲組用于對光學基底承載臺調平，使用第二水平檢測儀檢測光學基底承載臺的水平度，在光學基底承載臺四周配置有固定螺絲組。

本發明的積極效果：本發明采用直線電機帶動光刻膠涂敷機構在氣浮導軌上運動，通過刮涂的方式可以在光學基底上得到厚度一致性較高的光刻膠膜層。在光刻技術領域，使用本發明中所述的厚層光刻膠涂覆裝置進行進行上百微米的厚層光刻膠涂覆，為厚層光刻膠勻膠工藝提供科學的理論指導和實驗依據。

附圖說明

圖1是現有技術的噴涂設備和工藝示意圖。

圖2是本發明一種厚層光刻膠涂覆裝置結構示意圖。

圖3是本發明所述光刻膠涂覆移動機構的工作原理示意圖。

圖中：12、承載平臺，13、第一調節螺絲組，14、第一水平檢測儀，15、直線導軌副，16、導軌滑套，17、高低調節組件，18、光刻膠涂覆移動機構，19、第一推拉桿，20、萬向軸承，21、第二推拉桿，22、直線電機定子，23、直線電機動子，24、光學基底，25、光學基底承載臺，26、第二調節螺絲組，27、第二水平檢測儀，28、光學基底固定螺絲組，29、光刻膠涂覆刀口，30、已涂覆的光刻膠膜層31、未涂覆的光刻膠。

具體實施方式

如圖2所示，一種厚膠涂覆裝置結構，其包括承載平臺12、第一調節螺絲組13、第一水平檢測儀14、直線導軌副15、導軌滑套16、高低調節組件17、光刻膠涂覆移動機構18、第一推拉桿19、萬向軸承20、第二推拉桿21、直線電機定子22、直線電機動子23、光學基底24、光學基底承載臺25、第二調節螺絲組26、第二水平檢測儀27和光學基底固定螺絲組28。